首页--工业技术论文--化学工业论文--基本有机化学工业论文--元素有机化合物的生产论文--第Ⅳ族元素有机化合物论文--硅有机化合物论文

电沉积二氧化硅薄膜的硅烷修饰及其在有机涂层体系中的应用

致谢第1-7页
摘要第7-8页
ABSTRACT第8-14页
第1章 绪论第14-65页
     ·金属腐蚀与防护第14-27页
       ·金属腐蚀的危害及防腐蚀的意义第14-16页
       ·金属腐蚀的科学概念与分类第16-17页
       ·金属的防腐蚀处理工艺第17-27页
     ·有机涂层涂装技术第27-36页
       ·概述第27页
       ·涂料的组成第27-29页
       ·涂料的分类第29页
       ·涂膜的形成机理第29-31页
       ·涂装方法第31-32页
       ·涂层的保护作用和防护机理第32-33页
       ·涂层结构与物性第33-36页
     ·金属涂装前预处理工艺第36-45页
       ·目前常用的预处理工艺第37-39页
       ·预处理层的防护机制第39-40页
       ·预处理层的研究进展第40-45页
     ·硅烷预处理技术第45-54页
       ·概述第45页
       ·硅烷偶联剂第45-47页
       ·硅烷的成膜反应机理第47-49页
       ·硅烷sol-gel薄膜制备工艺第49-52页
       ·硅烷预处理在金属腐蚀防护领域的研究进展第52-54页
     ·本课题的研究内容、目的和意义第54-55页
       ·课题意义第54页
       ·研究内容第54-55页
 参考文献第55-65页
第2章 实验部分第65-77页
     ·实验用基体与表面前处理第65-66页
       ·基体及其化学组成第65页
       ·基体的表面前处理第65-66页
     ·主要材料与试剂第66-68页
       ·有机涂料第66页
       ·化学试剂第66-68页
       ·其他实验材料第68页
     ·预处理层的制备第68-70页
       ·前驱体溶液配制第68-69页
       ·预处理层的制备第69-70页
     ·有机涂层的制备(参见第四章)第70页
     ·仪器与表征第70-74页
       ·实验仪器第70-71页
       ·表征方法第71-74页
 参考文献第74-77页
第3章 硅烷修饰的二氧化硅薄膜的制备与短期防护性能研究第77-98页
     ·引言第77-79页
     ·实验部分第79-80页
       ·预处理层的制备第79页
       ·物理表征第79-80页
       ·短期防护性能测试第80页
     ·结果与讨论第80-93页
       ·预处理层的形貌和表面疏水性第80-84页
       ·有机硅烷在E-SiO_2薄膜中的吸附情况第84页
       ·预处理层的化学组成第84-86页
       ·预处理层的短期防护效果第86-90页
       ·有机硅烷的自修复作用第90-93页
     ·本章小结第93页
 参考文献第93-98页
第4章 以硅烷修饰的电沉积二氧化硅为预处理层构建涂装防护体系及其性能研究第98-112页
     ·引言第98页
     ·实验部分第98-99页
       ·涂层制备第98-99页
       ·涂层结合力测试第99页
       ·物理表征第99页
       ·耐腐蚀性能表征第99页
     ·结果与讨论第99-108页
       ·金属/涂层体系的结合力第99-101页
       ·MS/E-SiO_2/Silane/环氧涂层界面形貌第101-102页
       ·涂装体系的耐腐蚀性能第102-106页
       ·浸涂修饰有机硅烷相关参数的影响第106-108页
     ·本章小结第108-110页
 参考文献第110-112页
第5章 总结与展望第112-114页
     ·总结第112-113页
     ·展望第113-114页
附录:攻读硕士期间取得的科研成果第114页

论文共114页,点击 下载论文
上一篇:细胞色素P450 BM-3半理性分子改造研究
下一篇:锂离子电池正极材料LiV3O8的制备及电化学性能研究