离散平面超光滑磁流变抛光工艺的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题的来源与意义 | 第8-9页 |
| ·课题来源 | 第8页 |
| ·课题意义 | 第8-9页 |
| ·平面光学元件 | 第9-10页 |
| ·平面光学元件的应用 | 第9-10页 |
| ·光学元件加工的要求 | 第10页 |
| ·平面光学元件加工技术现状 | 第10-15页 |
| ·环形抛光 | 第10-11页 |
| ·传统抛光改进方法 | 第11-13页 |
| ·现代抛光技术新发展 | 第13-14页 |
| ·磁流变抛光技术 | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15-17页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| ·内容安排 | 第16-17页 |
| 2 同盘环带磁流变抛光理论研究 | 第17-27页 |
| ·同盘环带磁流变抛光技术路线 | 第17-18页 |
| ·平面光学元件的加工特点 | 第18-20页 |
| ·平面光学元件的特点 | 第18-19页 |
| ·光学加工表面参数 | 第19-20页 |
| ·磁流变精磨抛光的机理 | 第20-23页 |
| ·抛光机理的传统解释 | 第20-21页 |
| ·磁流变精磨抛光的实现条件 | 第21-22页 |
| ·Preston去除率方程 | 第22-23页 |
| ·剪切去除 | 第23页 |
| ·磁流变抛光加工缺陷 | 第23-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 磁流变同盘抛光粗糙度工艺研究 | 第27-48页 |
| ·抛光盘的制备 | 第27-33页 |
| ·同盘抛光盘的设计 | 第27-28页 |
| ·抛光盘的制备 | 第28-33页 |
| ·精磨盘环带磁流变抛光实验 | 第33-39页 |
| ·磁流变抛光工艺实验条件 | 第33-35页 |
| ·磁流变抛光工艺参数的选择 | 第35-36页 |
| ·同盘环带磁流变抛光表面粗糙度 | 第36-38页 |
| ·磁流变精磨盘直接抛光粗糙度结果分析 | 第38-39页 |
| ·固着聚氨脂同盘预抛光实验 | 第39-42页 |
| ·固着聚氨脂同盘抛光实验 | 第39页 |
| ·工艺参数的设定 | 第39-40页 |
| ·固着聚氨脂抛光膜抛光工艺表面粗糙度 | 第40-42页 |
| ·磁流变抛光实验 | 第42-47页 |
| ·磁流变抛光盘零件表面初始粗糙度值规一化 | 第42页 |
| ·磁流变抛光工艺的设计 | 第42-43页 |
| ·同盘径向分布实验 | 第43-45页 |
| ·同盘角度分布实验 | 第45-47页 |
| ·环带磁流变同盘加工实验粗糙值结果分析 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 同盘磁流变抛光边缘效应的研究 | 第48-59页 |
| ·边缘效应的分析 | 第48-52页 |
| ·边缘效应的表现 | 第48-49页 |
| ·同盘组边缘粗糙度分布规律 | 第49-52页 |
| ·边缘效应产生机理分析 | 第52-53页 |
| ·同盘加工小元件面形的研究 | 第53-57页 |
| ·面形误差检测方法与原理 | 第53-55页 |
| ·面形误差产生的原因和解决方案 | 第55-56页 |
| ·面形修正工艺实验 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 5 结论 | 第59-62页 |
| ·主要结论 | 第59页 |
| ·后期工作展望 | 第59-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
