| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·研究现状及趋势 | 第11-13页 |
| ·高磁导率薄膜材料的研究 | 第11-13页 |
| ·薄膜型吸波材料的研究 | 第13页 |
| ·选题依据及意义 | 第13-15页 |
| ·本论文的主要工作 | 第15-16页 |
| 第二章 磁性材料基本性质 | 第16-23页 |
| ·动态磁化的基本特征 | 第16-21页 |
| ·动态磁化的基本概念 | 第16-17页 |
| ·动态磁化过程中的畴壁位移机理 | 第17-18页 |
| ·动态磁化过程中的铁磁共振微观机理 | 第18页 |
| ·动态磁化过程的磁损耗 | 第18-21页 |
| ·磁性薄膜高磁导率理论 | 第21-22页 |
| ·磁性薄膜优化设计技术 | 第22-23页 |
| 第三章 铁磁薄膜的溅射法制备与表征 | 第23-37页 |
| ·铁磁薄膜直流磁控溅射技术 | 第23-25页 |
| ·铁磁薄膜的镀膜设备 | 第23-24页 |
| ·实验过程 | 第24-25页 |
| ·图形化薄膜光刻剥离技术 | 第25-30页 |
| ·光刻工艺简介 | 第25-26页 |
| ·紫外光曝光工艺 | 第26-28页 |
| ·光刻工艺实验方案 | 第28-29页 |
| ·光刻工艺实验步骤 | 第29-30页 |
| ·薄膜厚度与结构表征 | 第30-31页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第30页 |
| ·晶相与显微结构表征 | 第30-31页 |
| ·薄膜电磁性能表征 | 第31-37页 |
| ·静态电磁性能表征 | 第31-32页 |
| ·微波磁导率测试技术 | 第32-37页 |
| 第四章 FeCoNbCuB连续膜的制备及其电磁性能的研究 | 第37-47页 |
| ·FeCoNbCuB连续薄膜制备研究 | 第37-40页 |
| ·FeCoNbCuB薄膜制备工艺 | 第37页 |
| ·FeCoNbCuB薄膜厚度的测量结果及成分分析 | 第37-40页 |
| ·FeCoNbCuB连续薄膜的热处理工艺及其对电磁性能的影响 | 第40-45页 |
| ·薄膜热处理工艺 | 第40页 |
| ·热处理对薄膜形貌与结构的影响 | 第40-42页 |
| ·热处理对薄膜电性能的影响 | 第42-43页 |
| ·热处理对薄膜微波磁导率的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 FeCoBSi薄膜图案化制备及其电磁性能研究 | 第47-61页 |
| ·FeCoBSi薄膜图案化制备研究 | 第47-52页 |
| ·FeCoBSi薄膜图案化制备工艺 | 第47-49页 |
| ·图案薄膜形貌和成分分析 | 第49-52页 |
| ·图案化FeCoBSi薄膜静态电磁性能研究 | 第52-56页 |
| ·图案化对磁滞回线的影响 | 第52-54页 |
| ·单轴磁各向异性对图案薄膜磁滞回线的影响 | 第54-55页 |
| ·图案化对薄膜电性能的影响 | 第55-56页 |
| ·图案化FeCoBSi薄膜微波磁性能研究 | 第56-59页 |
| ·图案化对微波磁导率的影响 | 第56-59页 |
| ·单轴磁各向异性对图案薄膜的微波磁导率的影响 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| ·进一步工作方向 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第67页 |
