| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第11-15页 |
| ·结构性质 | 第11-13页 |
| ·光学和电学性质 | 第13-14页 |
| ·其他性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO 材料的应用 | 第15-17页 |
| ·紫外光电探测器 | 第16页 |
| ·高频声表面波器件 | 第16页 |
| ·可与 GaN 互作缓冲层 | 第16页 |
| ·透明电极 | 第16-17页 |
| ·气敏传感器 | 第17页 |
| ·ZnO 薄膜的研究现状及进展 | 第17-20页 |
| ·氧化锌晶体、薄膜生长与器件制备 | 第18页 |
| ·氧化锌的掺杂和杂质缺陷研究 | 第18-19页 |
| ·磁性氧化锌材料及其自旋电子学 | 第19-20页 |
| ·氧化锌纳米 (低维) 结构 | 第20页 |
| ·本论文的选题背景与主要研究内容 | 第20-22页 |
| ·氧分压对 ZnO/PS 薄膜结构及其光学特性影响的研究 | 第20-21页 |
| ·退火温度对 ZnO/PS 薄膜结构及其光学特性影响的研究 | 第21页 |
| ·退火气氛对 ZnO/PS 薄膜结构及其光学特性影响的研究 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 薄膜的制备技术和表征方法 | 第26-38页 |
| ·ZnO 薄膜的制备技术 | 第26-30页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积 (PLD) | 第27-28页 |
| ·分子束外延 (MBE) | 第28页 |
| ·溶胶-凝胶 (Sol-Gel) | 第28-29页 |
| ·金属有机化学气相沉积 (MOCVD) | 第29页 |
| ·喷雾热分解法 (Spray Pyrolysis) | 第29-30页 |
| ·薄膜的表征技术 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射 (XRD) | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·紫外分光光度计 | 第32-33页 |
| ·荧光分光光度计 | 第33-34页 |
| ·本论文样品的制备 | 第34-37页 |
| ·衬底 PS 的制备方法 | 第34-35页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 氧分压对 ZnO/PS 薄膜的微结构及其光学特性影响的研究 | 第38-48页 |
| ·ZnO/PS 复合薄膜的结构形貌 | 第38-39页 |
| ·氧氩比对 ZnO/PS 复合薄膜的结构的影响 | 第39-41页 |
| ·氧氩比对 ZnO/PS 复合薄膜光学特性的影响 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第四章 退火温度对 ZnO/PS 薄膜的微结构及其光学特性影响的研究 | 第48-58页 |
| ·退火温度对 ZnO/PS 复合薄膜的结构的影响 | 第48-50页 |
| ·退火温度对 ZnO/PS 复合薄膜光学特性的影响 | 第50-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 退火气氛对 ZnO/PS 薄膜的微结构及其光学特性影响的研究 | 第58-67页 |
| ·退火气氛对 ZnO/PS 复合薄膜的结构的影响 | 第58-60页 |
| ·退火气氛对 ZnO/PS 复合薄膜光学特性的影响 | 第60-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第六章 总结和展望 | 第67-69页 |
| ·总结 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
