| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·薄膜技术的发展 | 第7-8页 |
| ·光学薄膜的应用 | 第8-10页 |
| ·本课题的提出及主要内容 | 第10-11页 |
| 第二章 基本理论 | 第11-17页 |
| ·电磁波 | 第11-12页 |
| ·单界面之反射与透射 | 第12-15页 |
| ·全介质薄膜 | 第15-17页 |
| 第三章 材料选择与薄膜设计 | 第17-29页 |
| ·材料选择 | 第17-22页 |
| ·膜系设计 | 第22-29页 |
| 第四章 薄膜制备 | 第29-40页 |
| ·薄膜制备装置 | 第29-32页 |
| ·膜层厚度监控 | 第32-35页 |
| ·制备流程 | 第35-36页 |
| ·影响成膜的工艺因素 | 第36-37页 |
| ·故障分析与注意事项 | 第37-40页 |
| 第五章 测试结果与分析 | 第40-43页 |
| ·光谱测试 | 第40-42页 |
| ·环境测试 | 第42-43页 |
| 总结 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45页 |