红外探测器光学系统滤光膜的研制
| 摘要 | 第1页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·现代光学薄膜的发展以及应用 | 第7-8页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第8页 |
| ·论文研究内容 | 第8-10页 |
| 第二章 薄膜光学的理论基础 | 第10-19页 |
| ·麦克斯韦的电磁场理论 | 第10-11页 |
| ·菲涅尔公式 | 第11-14页 |
| ·光学薄膜的特征矩阵 | 第14-19页 |
| 第三章 膜料的选取以及其光学性质 | 第19-28页 |
| ·干涉截止滤光膜的技术要求 | 第19页 |
| ·选取膜料的基本前提 | 第19-20页 |
| ·透明区 | 第20页 |
| ·吸收和散射 | 第20页 |
| ·折射率 | 第20页 |
| ·机械牢固度和化学稳定性 | 第20页 |
| ·薄膜材料的选取 | 第20-23页 |
| ·所选材料的性质分析 | 第23-28页 |
| 第四章 干涉截止滤光膜的设计理论及膜系的设计 | 第28-38页 |
| ·干涉截止滤光膜的基本周期性膜系 | 第28-30页 |
| ·基本周期性膜系通带波纹的压缩 | 第30-32页 |
| ·干涉截止滤光膜通带的展宽和压缩 | 第32-33页 |
| ·干涉截止滤光膜膜系的设计 | 第33-38页 |
| 第五章 干涉截止滤光膜的制备 | 第38-51页 |
| ·真空技术 | 第38-40页 |
| ·薄膜制备技术 | 第40-46页 |
| ·饱和蒸汽压 | 第40页 |
| ·蒸发速率的确定 | 第40页 |
| ·电子束加热蒸发 | 第40-41页 |
| ·离子辅助沉积技术 | 第41-42页 |
| ·膜层厚度的控制 | 第42-43页 |
| ·膜层厚度均匀性 | 第43-46页 |
| ·干涉截止滤光膜的制备工艺流程 | 第46页 |
| ·制备过程中工艺参数的具体分析 | 第46-49页 |
| ·真空度的影响 | 第46-47页 |
| ·温度的影响 | 第47页 |
| ·膜层厚度的控制 | 第47-48页 |
| ·YbF3和Si的制备工艺 | 第48页 |
| ·离子辅助沉积工艺 | 第48-49页 |
| ·测试结果与分析 | 第49-51页 |
| 总结 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
