| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·Cu 基 P-TCO 的研究进展 | 第12-14页 |
| ·CuCrO_2的晶体结构 | 第14-15页 |
| ·透明 p n 结的研究进展 | 第15-16页 |
| ·本课题的主要内容与意义 | 第16-17页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第17-27页 |
| ·薄膜制备方法简介 | 第17-24页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·分子束外延 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积 | 第19页 |
| ·电子束蒸发 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第20-23页 |
| ·化学溶液法 | 第23-24页 |
| ·样品的表征与物性测试 | 第24-26页 |
| ·样品的结构与物相测试 | 第24-25页 |
| ·样品的厚度与形貌测试 | 第25页 |
| ·样品的光学性能测试 | 第25页 |
| ·样品的电学性能测试 | 第25-26页 |
| ·样品的磁学性能测试 | 第26页 |
| ·本章总结 | 第26-27页 |
| 第三章 CuCrO_2靶材的制备与表征 | 第27-31页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·CuCrO_2靶材的制备工艺 | 第27页 |
| ·CuCrO_2靶材和 Mg 掺杂 CuCrO_2靶材的结构与形貌分析 | 第27-30页 |
| ·本章总结 | 第30-31页 |
| 第四章 化学溶液法 CuCrO2薄膜的制备与性能研究 | 第31-47页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·化学溶液法制备 CuCrO_2薄膜的工艺 | 第32-33页 |
| ·不同退火温度对 CuCrO_2薄膜的结构与物性的影响 | 第33-39页 |
| ·CuCrO_2薄膜的结构与物相分析 | 第33-34页 |
| ·CuCrO_2薄膜的光学性能分析 | 第34-37页 |
| ·CuCrO_2薄膜的电学性能分析 | 第37-39页 |
| ·Mg 掺杂浓度对 CuCrO_2薄膜的结构特性的影响 | 第39-46页 |
| ·Mg 掺杂 CuCrO_2薄膜的结构与物相分析 | 第40-41页 |
| ·Mg 掺杂 CuCrO_2薄膜的光学性能分析 | 第41-43页 |
| ·Mg 掺杂 CuCrO_2薄膜的电学性能分析 | 第43-46页 |
| ·本章总结 | 第46-47页 |
| 第五章 PLD 制备 CuCrO_2薄膜与性能研究 | 第47-55页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·不同的衬底对 CuCrO_2薄膜与物性的影响 | 第47-54页 |
| ·CuCrO_2薄膜的结构与物相分析 | 第48-51页 |
| ·CuCrO_2薄膜的光学性能分析 | 第51-52页 |
| ·CuCrO_2薄膜的电学性能分析 | 第52-54页 |
| ·本章总结 | 第54-55页 |
| 总结与展望 | 第55-58页 |
| 1 总结 | 第55-57页 |
| 2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读硕士期间主要的研究成果 | 第62页 |
