Mo、Nb、C/C表面双辉Ir涂层制备及其结构性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第11-14页 |
| ·难熔金属抗氧化的必要性 | 第11-12页 |
| ·C/C 复合材料抗氧化的必要性 | 第12-13页 |
| ·Ir 的应用 | 第13-14页 |
| ·IR 涂层的制备方法及研究现状 | 第14-16页 |
| ·PVD 制备Ir 涂层 | 第14-15页 |
| ·CVD 制备Ir 涂层 | 第15-16页 |
| ·MOCVD 制备Ir 涂层 | 第16页 |
| ·ED 制备Ir 涂层 | 第16页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化技术 | 第16-20页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化技术原理 | 第17-18页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化技术的物理基础 | 第18-19页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化技术特点 | 第19-20页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化技术应用和发展 | 第20页 |
| ·研究课题的提出、内容、目的和意义 | 第20-22页 |
| ·研究课题的提出 | 第20-21页 |
| ·研究内容 | 第21页 |
| ·研究课题的目的和意义 | 第21-22页 |
| 第二章 实验过程及研究方法 | 第22-29页 |
| ·原材料 | 第22页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·双层辉光等离子表面合金化炉 | 第22-23页 |
| ·IR 涂层制备工艺流程及制备过程 | 第23-24页 |
| ·Ir 涂层制备工艺流程 | 第23页 |
| ·Ir 涂层制备过程 | 第23-24页 |
| ·涂层物理性能表征 | 第24-28页 |
| ·涂层结合力测定 | 第24-25页 |
| ·纳米压痕仪 | 第25-28页 |
| ·涂层成分与显微结构分析 | 第28页 |
| ·物相和涂层择优生长方向测试 | 第28页 |
| ·涂层表面及界面形貌分析 | 第28页 |
| ·涂层的氧-乙炔焰烧蚀 | 第28-29页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第29-61页 |
| ·MO 基体上沉积IR 涂层 | 第29-32页 |
| ·气压对涂层制备速率的影响 | 第29-30页 |
| ·源极电压与工件电压差对涂层制备速率的影响 | 第30-32页 |
| ·极间距对涂层制备速率的影响 | 第32页 |
| ·C/C 复合材料基体上沉积IR 涂层 | 第32-35页 |
| ·工艺参数对涂层的表面形貌的影响 | 第32-35页 |
| ·等离子体的绕射现象 | 第35页 |
| ·IR 涂层表面形貌和组织结构 | 第35-41页 |
| ·Ir 涂层的表面形貌 | 第35-38页 |
| ·Ir 涂层的组织结构 | 第38-41页 |
| ·IR 涂层的截面形貌 | 第41-48页 |
| ·Mo 基Ir 涂层的截面形貌 | 第41-42页 |
| ·共混区形成机理分析 | 第42-46页 |
| ·Nb 基Ir 涂层的截面形貌 | 第46-47页 |
| ·C/C 复合材料基Ir 涂层的截面形貌 | 第47-48页 |
| ·划痕法测量IR 涂层结合力 | 第48-51页 |
| ·Mo 基体上Ir 涂层的结合力 | 第48-50页 |
| ·Nb 基体上Ir 涂层的结合力 | 第50页 |
| ·C/C 复合材料基体上Ir 涂层的结合力 | 第50-51页 |
| ·纳米压入表征IR 涂层的表面硬度和弹性模量 | 第51-55页 |
| ·相同载荷下不同基体上Ir 涂层的纳米压入分析 | 第51-54页 |
| ·不同载荷下的Ir 涂层的纳米压入分析 | 第54-55页 |
| ·IR 涂层的烧蚀 | 第55-59页 |
| ·Mo 基体上Ir 涂层的烧蚀 | 第55-56页 |
| ·Nb 基体上Ir 涂层的烧蚀 | 第56-58页 |
| ·C/C 复合材料基体上Ir 涂层的烧蚀 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 总结与展望 | 第61-63页 |
| ·本文工作总结 | 第61-62页 |
| ·后继工作展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第71页 |
