| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12-18页 |
| ·ZnO的压电特性 | 第14-15页 |
| ·ZnO的电学特性 | 第15页 |
| ·ZnO的荧光和激射特性 | 第15-18页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第18-20页 |
| ·ZnO压电器件 | 第18页 |
| ·ZnO紫外探测器 | 第18-19页 |
| ·ZnO透明电极 | 第19页 |
| ·ZnO薄膜的其它应用 | 第19-20页 |
| ·ZnO薄膜的p型掺杂和发光器件的研究进展 | 第20-25页 |
| ·ZnO薄膜的p型掺杂研究进展 | 第20-22页 |
| ·ZnO同质结LED发光器件的研究进展 | 第22-25页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 ZnO薄膜的制备和表征技术 | 第27-44页 |
| ·ZnO薄膜的几种主要制备方法 | 第27-29页 |
| ·分子束外延(Molecular Beam Epitaxy) | 第27-28页 |
| ·溅射(Sputtering) | 第28页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) | 第28-29页 |
| ·金属有机化学气相沉积(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) | 第29页 |
| ·本论文中用于制备ZnO薄膜的MOCVD反应系统 | 第29-35页 |
| ·MOCVD系统中制备ZnO薄膜的源材料 | 第30-31页 |
| ·用于ZnO生长的MOCVD反应系统 | 第31-35页 |
| ·ZnO薄膜和器件的表征技术 | 第35-44页 |
| ·X射线衍射(X-ray diffraction) | 第35-36页 |
| ·霍尔效应测试(Hall Effect) | 第36-37页 |
| ·原子力显微镜(Atomic force microscope) | 第37-39页 |
| ·扫描电子显微镜(Scanning electron microscope) | 第39-40页 |
| ·X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy) | 第40-42页 |
| ·光荧光测试(Photoluminescence) | 第42-43页 |
| ·其它测试方法 | 第43-44页 |
| 3 GaAs衬底上制备p-ZnO薄膜和发光器件 | 第44-72页 |
| ·GaAs作为衬底制备p-ZnO:As的研究背景 | 第44-46页 |
| ·GaAs衬底上ZnO薄膜的生长与优化 | 第46-57页 |
| ·生长温度对GaAs衬底上的ZnO薄膜性质的影响 | 第46-54页 |
| ·锌源流量对GaAs衬底上的ZnO薄膜性质的影响 | 第54-57页 |
| ·通过热退火扩散掺杂技术制备p-ZnO:As薄膜 | 第57-65页 |
| ·GaAs衬底上制备ZnO同质结LED发光器件 | 第65-70页 |
| ·ZnO同质结LED发光器件的制备 | 第65-66页 |
| ·ZnO发光器件的性能 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 4 Si衬底上制备ZnO薄膜和发光器件 | 第72-82页 |
| ·Si衬底上制备本征ZnO薄膜 | 第72-74页 |
| ·Si衬底上制备p-ZnO薄膜 | 第74-75页 |
| ·Si衬底上制备ZnO发光器件 | 第75-80页 |
| ·Si衬底上ZnO发光器件的制备过程 | 第75-77页 |
| ·Si衬底上ZnO发光器件的性能 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 5 蓝宝石衬底上制备ZnO薄膜和发光器件 | 第82-99页 |
| ·蓝宝石衬底上制备本征ZnO薄膜 | 第82-88页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜性质的影响 | 第82-87页 |
| ·缓冲层对ZnO薄膜性质的影响 | 第87-88页 |
| ·蓝宝石衬底上制备p-ZnO薄膜 | 第88-93页 |
| ·NH_3掺杂的ZnO:N薄膜的性质 | 第88-89页 |
| ·O_2中退火对ZnO:N薄膜的性质的影响 | 第89-91页 |
| ·N_2O中退火对ZnO:N薄膜的性质的影响 | 第91-93页 |
| ·蓝宝石衬底上制备ZnO同质结LED发光器件 | 第93-97页 |
| ·蓝宝石衬底上ZnO发光器件的制备过程 | 第93-94页 |
| ·蓝宝石衬底上ZnO发光器件的性能 | 第94-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 6 ZnO薄膜的可控湿法刻蚀工艺 | 第99-105页 |
| ·ZnO薄膜的刻蚀处理过程 | 第99-100页 |
| ·刻蚀对ZnO薄膜的影响 | 第100-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 结论 | 第105-108页 |
| 本论文创新点摘要 | 第108-109页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 作者简介 | 第122-123页 |
