| 第一章 引言 | 第1-10页 |
| 第二章 ZnO的基本性质及低维材料的特性简介 | 第10-23页 |
| 2．1 ZnO材料的基本特性 | 第10-11页 |
| 2．2 ZnO的紫外激光的研究进展 | 第11-15页 |
| 2．3 低维ZnO纳米材料的研究进展 | 第15-17页 |
| 2．4 低维材料的研究意义和本文的预期结果 | 第17-23页 |
| 第三章 ZnO薄膜材料的制备和表征方法简介 | 第23-31页 |
| 3．1 电子束蒸发设备的原理和结构 | 第23-25页 |
| 3．2 热退火装置的结构 | 第25-27页 |
| 3．3 X射线衍射的原理 | 第27-28页 |
| 3．4 微区光致发光光谱仪的结构 | 第28-29页 |
| 3．5 透射反射谱的测试原理 | 第29-31页 |
| 第四章 电子束蒸发的纳米ZnO薄膜的结构和光学性质研究 | 第31-43页 |
| 4．1 样品的制备过程 | 第31页 |
| 4．2 电子束蒸发的纳米ZnO薄膜的结构特征 | 第31-33页 |
| 4．3 电子束蒸发的纳米ZnO薄膜的光学特性 | 第33-41页 |
| 4．4 电子束蒸发的ZnO薄膜的低温光致发光谱分析 | 第41-43页 |
| 第五章 MgO包埋的ZnO量子点的光学特性研究 | 第43-48页 |
| 5．1 研究目的和样品的制备 | 第43-44页 |
| 5．2 实验结果和讨论 | 第44-48页 |
| 第六章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第54页 |