基于离子刻蚀的石英晶振频率微调技术研究
中文摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
·引言 | 第8页 |
·石英晶振频率微调国内外研究现状 | 第8-11页 |
·离子束刻蚀加工 | 第11-12页 |
第二章 石英晶振 | 第12-18页 |
·压电效应 | 第12-13页 |
·石英谐振器的形成及等效电路 | 第13-14页 |
·石英谐振器的谐振频率 | 第14页 |
·石英谐振器的电抗曲线 | 第14-16页 |
·石英晶振的温度特性 | 第16-18页 |
第三章 离子刻蚀技术 | 第18-28页 |
·离子束加工 | 第18-21页 |
·离子束加工原理 | 第18页 |
·离子束加工分类 | 第18-20页 |
·离子束加工应用 | 第20-21页 |
·离子束刻蚀 | 第21-25页 |
·离子刻蚀的物理过程 | 第21-22页 |
·离子刻蚀的溅射率 | 第22-25页 |
·离子束刻蚀设备 | 第25-26页 |
·离子源 | 第25-26页 |
·工作腔 | 第26页 |
·排气系统 | 第26页 |
·离子束刻蚀的应用 | 第26-28页 |
第四章 离子刻蚀频率微调及生产工艺 | 第28-42页 |
·频率微调方法 | 第28页 |
·离子刻蚀频率微调方法 | 第28-29页 |
·离子束电流密度 | 第29-30页 |
·离子束刻蚀速度 | 第30-32页 |
·离子刻蚀频率微调加工工艺 | 第32-42页 |
·离子刻蚀后数秒内频率的偏移 | 第32-35页 |
·离子刻蚀后频率偏移的处理方法 | 第35-39页 |
·离子枪出力不稳定产生不良现象 | 第39-40页 |
·离子枪出力不稳定的处理方法 | 第40-42页 |
结束语 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
攻读学位期间公开发表的论文 | 第45-46页 |
致谢 | 第46-47页 |