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基于离子刻蚀的石英晶振频率微调技术研究

中文摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-12页
   ·引言第8页
   ·石英晶振频率微调国内外研究现状第8-11页
   ·离子束刻蚀加工第11-12页
第二章 石英晶振第12-18页
   ·压电效应第12-13页
   ·石英谐振器的形成及等效电路第13-14页
   ·石英谐振器的谐振频率第14页
   ·石英谐振器的电抗曲线第14-16页
   ·石英晶振的温度特性第16-18页
第三章 离子刻蚀技术第18-28页
   ·离子束加工第18-21页
     ·离子束加工原理第18页
     ·离子束加工分类第18-20页
     ·离子束加工应用第20-21页
   ·离子束刻蚀第21-25页
     ·离子刻蚀的物理过程第21-22页
     ·离子刻蚀的溅射率第22-25页
   ·离子束刻蚀设备第25-26页
     ·离子源第25-26页
     ·工作腔第26页
     ·排气系统第26页
   ·离子束刻蚀的应用第26-28页
第四章 离子刻蚀频率微调及生产工艺第28-42页
   ·频率微调方法第28页
   ·离子刻蚀频率微调方法第28-29页
   ·离子束电流密度第29-30页
   ·离子束刻蚀速度第30-32页
   ·离子刻蚀频率微调加工工艺第32-42页
     ·离子刻蚀后数秒内频率的偏移第32-35页
     ·离子刻蚀后频率偏移的处理方法第35-39页
     ·离子枪出力不稳定产生不良现象第39-40页
     ·离子枪出力不稳定的处理方法第40-42页
结束语第42-43页
参考文献第43-45页
攻读学位期间公开发表的论文第45-46页
致谢第46-47页

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