单根碳纳米管的场发射与场蒸发研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| 第一节 纳米电子学 | 第9-10页 |
| 第二节 碳纳米管介绍 | 第10-17页 |
| ·单壁碳纳米管的结构 | 第11-14页 |
| ·碳纳米管的研究进展 | 第14-17页 |
| 第三节 选题思路与主要研究内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-27页 |
| 第二章 低能电子点源显微镜研制 | 第27-51页 |
| 第一节 概述 | 第27-30页 |
| 第二节 低能电子点源显微镜的构造 | 第30-39页 |
| ·低能电子点源显微镜组件 | 第31-33页 |
| ·位移控制系统 | 第33-36页 |
| ·虚拟仪器与自动控制 | 第36-39页 |
| 第三节 LEEPS 初步研究结果 | 第39-44页 |
| ·投影像的定标 | 第39-41页 |
| ·投影像的观察 | 第41-44页 |
| 第四节 本章小结 | 第44-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 第三章 碳纳米管场发射与相干电子源 | 第51-93页 |
| 第一节 金属场发射基本理论 | 第51-56页 |
| 第二节 单根碳纳米管的场发射特性研究 | 第56-72页 |
| ·样品准备 | 第57-58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-61页 |
| ·亮度 | 第61-67页 |
| ·场发射过程中样品的钝化 | 第67-72页 |
| ·碳纳米管端口场发射像 | 第72页 |
| 第三节 相干电子源 | 第72-84页 |
| ·碳纳米管是相干电子源 | 第73-80页 |
| ·电子源的两种发射态 | 第80-84页 |
| 第四节 小结与展望 | 第84页 |
| 参考文献 | 第84-93页 |
| 第四章 碳纳米管的场蒸发研究 | 第93-123页 |
| 第一节 概述 | 第93-100页 |
| ·场蒸发与场解吸基本理论 | 第94-97页 |
| ·影响场蒸发速率的因素 | 第97页 |
| ·碳纳米管场蒸发研究现状 | 第97-100页 |
| 第二节 场蒸发处理对其场发射性能的影响 | 第100-113页 |
| ·碳纳米管的场蒸发 | 第101-107页 |
| ·碳纳米管场蒸发后的场发射 | 第107-110页 |
| ·平面样品的场蒸发 | 第110-113页 |
| 第三节 碳纳米管场蒸发的定性解释 | 第113-118页 |
| ·碳纳米管与传统材料蒸发场的比较 | 第114-115页 |
| ·场蒸发的定性解释 | 第115-118页 |
| 第四节 本章小结 | 第118-119页 |
| 参考文献 | 第119-123页 |
| 结论 | 第123-125页 |
| 图表目录 | 第125-128页 |
| 攻读学位期间论文发表情况 | 第128-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
