| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| §1.1 低介电常数材料的研究背景 | 第9-11页 |
| §1.2 SiCOH多孔超低k材料的研究现状 | 第11-14页 |
| ·制备技术 | 第12-13页 |
| ·源气体 | 第13-14页 |
| ·后处理 | 第14页 |
| §1.3 本小组SiCOH薄膜研究的主要进展 | 第14-16页 |
| §1.4 本文的研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 F-SiCOH薄膜的制备及表征方法 | 第17-30页 |
| §2.1 F-SiCOH薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体(ECR)原理简介 | 第17-18页 |
| ·微波ECR-CVD真空沉积系统与实验装置 | 第18-20页 |
| ·实验参数 | 第20-21页 |
| §2.2 ECR放电等离子体的质谱分析 | 第21-24页 |
| ·四极质谱仪工作原理 | 第22-23页 |
| ·四极质谱仪的等离子体分析方法 | 第23-24页 |
| ·DMCPS/CHF_3气体放电等离子体质谱的测量方法 | 第24页 |
| §2.3 ECR放电等离子体发射的光谱分析 | 第24-27页 |
| ·等离子体发射光谱的产生机理 | 第24-25页 |
| ·相对辐射测量的定义 | 第25页 |
| ·放电等离子体中基团浓度的定量测量 | 第25-26页 |
| ·DMCPS/CHF_3气体放电等离子体发射光谱的测量方法 | 第26-27页 |
| §2.4 F-SiCOH薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征方法 | 第27-30页 |
| 第三章 DMCPS的电子碰撞离化机制 | 第30-38页 |
| §3.1 DMCPS的质谱分析 | 第30-33页 |
| §3.2 DMCPS在电子碰撞下的离化机制 | 第33-36页 |
| §3.3 离化能对DMCPS离化规律的影响 | 第36-38页 |
| 第四章 DMCPS的ECR等离子体化学特性及对薄膜结构的影响 | 第38-44页 |
| §4.1 DMCPS的ECR等离子体质谱、光谱解析 | 第38-41页 |
| §4.2 等离子体基团与SiCOH薄膜结构的关联 | 第41-44页 |
| 第五章 CHF_3/DMCPS的ECR等离子体化学特性及对F-SiCOH薄膜结构的影响 | 第44-53页 |
| §5.1 CHF_3/DMCPS的放电等离子体质谱研究 | 第44-49页 |
| ·CHF_3的质谱分析 | 第44-45页 |
| ·CHF_3/DMCPS的放电等离子体质谱研究 | 第45-49页 |
| ·CHF_3流量对等离子体中性基团的影响 | 第49页 |
| §5.2 CHF_3掺杂SiCOH薄膜的结构分析 | 第49-53页 |
| 第六章 结论 | 第53-55页 |
| §6.1 本文的主要结果 | 第53-54页 |
| §6.2 存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 附录:攻读学位期间公开发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 详细摘要 | 第61-63页 |
