提要 | 第1-10页 |
第1章 绪论 | 第10-35页 |
·选题意义 | 第10-11页 |
·镁合金的特点及应用现状 | 第11-14页 |
·镁合金的特点 | 第11-13页 |
·镁合金的应用现状 | 第13-14页 |
·限制镁合金应用领域扩展的主要问题 | 第14页 |
·镁及镁合金常见的腐蚀类型 | 第14-18页 |
·镁及镁合金在氧化性气氛中的化学腐蚀 | 第15页 |
·镁及镁合金在水溶液中的电化学腐蚀 | 第15-16页 |
·镁及镁合金的点腐蚀和丝状腐蚀 | 第16-17页 |
·镁及镁合金的电偶腐蚀 | 第17页 |
·镁及镁合金的应力腐蚀开裂 | 第17-18页 |
·镁及镁合金的腐蚀防护 | 第18-25页 |
·提高镁合金制品整体的耐蚀性 | 第18-19页 |
·镁合金表面保护膜与涂层处理 | 第19-25页 |
·镁合金微弧氧化技术简介 | 第25-28页 |
·几个相关的概念 | 第25-26页 |
·微弧氧化技术的特点 | 第26-28页 |
·微弧氧化技术的发展历史及研究现状 | 第28-32页 |
·微弧氧化技术的发展历史 | 第28-29页 |
·微弧氧化的研究现状 | 第29-32页 |
·微弧氧化技术的应用前景 | 第32-33页 |
·本文主要研究内容 | 第33-35页 |
第2章 实验设备及方法 | 第35-45页 |
·实验设备 | 第35-37页 |
·实验材料 | 第37-38页 |
·微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第38-39页 |
·前处理 | 第38页 |
·电解液的配制 | 第38页 |
·微弧氧化处理 | 第38页 |
·试样后处理 | 第38-39页 |
·实验的技术路线 | 第39-40页 |
·微弧氧化膜的表征方法 | 第40-45页 |
·膜层厚度测量 | 第40页 |
·膜层相结构分析 | 第40页 |
·膜层微观形貌及化学成分分析 | 第40页 |
·膜层表面粗糙度分析 | 第40-41页 |
·膜层孔隙率分析 | 第41页 |
·膜层硬度测量 | 第41页 |
·静态接触角测量 | 第41页 |
·膜层耐蚀性能测试 | 第41-43页 |
·膜层耐磨损性能测试 | 第43-44页 |
·膜层拉伸性能测试 | 第44-45页 |
第3章 微弧氧化工艺参数的优化 | 第45-75页 |
·前言 | 第45-46页 |
·电解液的优化 | 第46-61页 |
·电解液中主成膜剂的确定 | 第46-52页 |
·电解液中添加剂的确定 | 第52-56页 |
·电解液pH 值的优化 | 第56-60页 |
·电解液中成膜促进剂和稳定剂的确定 | 第60-61页 |
·电流密度的优化 | 第61-65页 |
·电流密度对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第61-62页 |
·电流密度对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第62-64页 |
·电流密度对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第64-65页 |
·电源频率的优化 | 第65-69页 |
·电源频率对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第65-66页 |
·电源频率对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第66-68页 |
·电源频率对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第68-69页 |
·占空比的优化 | 第69-73页 |
·占空比对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第69-70页 |
·占空比对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第70-72页 |
·占空比对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第72-73页 |
·本章小结 | 第73-75页 |
第4章 镁合金微弧氧化膜的表征 | 第75-92页 |
·前言 | 第75-76页 |
·镁合金微弧氧化膜的表面形貌及元素分布 | 第76-79页 |
·镁合金微弧氧化膜层的结构及其元素分布 | 第79-85页 |
·无负电压条件下的膜层结构及元素分布 | 第79-81页 |
·有负电压条件下的膜层结构及元素分布 | 第81-85页 |
·镁合金微弧氧化膜的XRD 分析 | 第85页 |
·微弧氧化膜的X 射线光电子谱分析 | 第85-86页 |
·微弧氧化膜的红外光谱分析 | 第86-87页 |
·微弧氧化膜的表面孔隙率分析 | 第87-91页 |
·本章小结 | 第91-92页 |
第5章 微弧氧化机理及膜层形貌演变规律 | 第92-114页 |
·引言 | 第92页 |
·微弧氧化机理的研究进展 | 第92-97页 |
·微弧氧化过程的三个阶段 | 第97-100页 |
·微弧氧化膜的表面形貌随微弧氧化时间的变化 | 第100-105页 |
·微弧氧化膜表面形貌的演变规律 | 第105-106页 |
·微弧氧化膜的截面形貌随微弧氧化时间的变化 | 第106-110页 |
·微弧氧化膜截面形貌的演变规律 | 第110-113页 |
·本章小结 | 第113-114页 |
第6章 镁合金微弧氧化膜的相结构研究 | 第114-127页 |
·前言 | 第114-115页 |
·不同工艺参数下制备的微弧氧化膜层相结构的定性分析 | 第115-119页 |
·不同工艺参数下制备的微弧氧化膜层相结构的定量分析 | 第119-126页 |
·膜层中MgO 和MgAL_2O_4 相百分含量的计算 | 第119-121页 |
·膜层中MgAl_2O_4 相晶粒尺寸的计算 | 第121-123页 |
·膜层中MgAL_2O_4 相晶格常数的计算 | 第123-126页 |
·本章小结 | 第126-127页 |
第7章 镁合金微弧氧化膜的性能研究 | 第127-161页 |
·前言 | 第127-128页 |
·微弧氧化膜的表面粗糙度 | 第128-130页 |
·微弧氧化膜的润湿性能 | 第130-135页 |
·微弧氧化膜的硬度 | 第135-137页 |
·微弧氧化膜的耐蚀性能 | 第137-150页 |
·微弧氧化膜在酸性腐蚀介质中的耐蚀性能 | 第137-138页 |
·微弧氧化膜在电化学极化试验中的腐蚀性能 | 第138-139页 |
·微弧氧化膜在中性盐雾环境下的腐蚀行为 | 第139-150页 |
·微弧氧化膜的耐磨性能 | 第150-155页 |
·微弧氧化膜层在干摩擦工况下的磨损行为 | 第150-152页 |
·微弧氧化膜层在边界润滑条件下的磨损行为 | 第152-153页 |
·微弧氧化膜层在油润滑工况下的磨损行为 | 第153-155页 |
·微弧氧化膜的拉伸性能 | 第155-158页 |
·微弧氧化研究成果的实际应用 | 第158-159页 |
·本章小结 | 第159-161页 |
第8章 结论 | 第161-164页 |
参考文献 | 第164-175页 |
附件 | 第175-177页 |
攻博期间发表的学术论文及其他成果 | 第177-179页 |
致谢 | 第179-180页 |
摘要 | 第180-183页 |
Abstract | 第183-186页 |