| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-30页 |
| ·纳米二氧化钛光催化原理 | 第10-12页 |
| ·半导体和纳米材料 | 第10页 |
| ·纳米半导体的特殊性质 | 第10-11页 |
| ·纳米二氧化钛(TiO_2)的光催化原理 | 第11-12页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·液相法 | 第13页 |
| ·化学气相沉积制备方法 | 第13页 |
| ·物理气相沉积制备方法 | 第13-14页 |
| ·电化学制备方法 | 第14页 |
| ·喷雾热分解制备方法 | 第14页 |
| ·自组装制备方法 | 第14页 |
| ·溶胶-凝胶法简介 | 第14-21页 |
| ·Sol-gel法基本原理 | 第14-16页 |
| ·Sol-gel法的优缺点 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶过程的主要反应 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶的影响因素 | 第17-21页 |
| ·影响二氧化钛光催化活性的因素 | 第21-24页 |
| ·表面羟基含量 | 第21-22页 |
| ·膜的厚度及孔径 | 第22页 |
| ·晶型 | 第22-23页 |
| ·基片 | 第23页 |
| ·掺杂其它物质 | 第23-24页 |
| ·光强 | 第24页 |
| ·二氧化钛薄膜的改性技术 | 第24-26页 |
| ·贵金属沉积 | 第24-25页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第25页 |
| ·非金属掺杂 | 第25页 |
| ·表面光敏化 | 第25-26页 |
| ·复合半导体 | 第26页 |
| ·微波等离子体在TiO_2薄膜表面中的应用 | 第26-28页 |
| ·微波放电 | 第26-28页 |
| ·微波等离子体在TiO_2薄膜表表面处理中的应用 | 第28页 |
| ·国内外发展现状及课题意义及研究内容 | 第28-30页 |
| 2 实验部分 | 第30-37页 |
| ·实验药品及主要仪器设备 | 第30-33页 |
| ·微波发生及传输系统 | 第31-32页 |
| ·微波放电系统 | 第32页 |
| ·配气和抽气系统 | 第32-33页 |
| ·水冷系统 | 第33页 |
| ·玻璃片的清洗 | 第33页 |
| ·水体系溶胶的配制及薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·TiO_2薄膜的氮微波等离子体表面处理 | 第34页 |
| ·TiO_2薄膜的光催化活性评价方法 | 第34-37页 |
| 3 表征分析手段 | 第37-40页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第37页 |
| ·红外光谱分析 | 第37-38页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第38-40页 |
| 4 结果与讨论 | 第40-52页 |
| ·纳米TiO_2的低温制备及晶相转变研究 | 第40-46页 |
| ·表征与分析 | 第40-41页 |
| ·回流温度对晶相转变的影响 | 第41-43页 |
| ·焙烧温度对晶相转变的影响 | 第43-44页 |
| ·焙烧时间对样品晶相转变的影响 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| ·TiO_2薄膜的微波等离子体表面处理 | 第46-52页 |
| ·工作气体的选择 | 第46-47页 |
| ·输入功率的影响 | 第47-48页 |
| ·放电时间的影响 | 第48页 |
| ·薄膜的稳定性 | 第48-49页 |
| ·氮等离子体处理后TiO_2薄膜的紫外可见光谱分析 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 5 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |