| 第一章 绪论 | 第1-33页 |
| ·前言 | 第14-15页 |
| ·分子印迹原理 | 第15-16页 |
| ·分子印迹聚合物微球的制备及方法 | 第16-20页 |
| ·分子印迹制备技术的分类 | 第16-17页 |
| ·分子印迹制备方法 | 第17-20页 |
| ·分子印迹聚合物原材料 | 第20-26页 |
| ·模板分子 | 第21页 |
| ·交联剂 | 第21-24页 |
| ·功能单体 | 第24-25页 |
| ·溶剂或分散剂 | 第25-26页 |
| ·致孔剂 | 第26页 |
| ·分子印迹聚合物识别性能的表征 | 第26-27页 |
| ·高效液相色谱法 | 第26-27页 |
| ·电势测定法 | 第27页 |
| ·傅立叶变换红外光谱和核磁共振法 | 第27页 |
| ·分子印迹聚合物的应用 | 第27-30页 |
| ·在色谱分析中的应用 | 第28页 |
| ·用作生物传感器敏感材料 | 第28-29页 |
| ·用于手性拆分 | 第29页 |
| ·抗体和受体模拟物 | 第29-30页 |
| ·固相萃取 | 第30页 |
| ·催化方面的应用 | 第30页 |
| ·分子印迹技术研究展望 | 第30-31页 |
| ·课题的提出及本论文研究的内容和意义 | 第31-33页 |
| 第二章 硅胶表面替米考星分子印迹聚合物制备及性能研究 | 第33-41页 |
| ·前言 | 第33-34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·试剂 | 第34-35页 |
| ·仪器 | 第35页 |
| ·聚合物的制备 | 第35-39页 |
| ·硅胶表面预处理 | 第35-36页 |
| ·硅胶表面硅烷化 | 第36页 |
| ·硅胶表面引入 ACPC偶氮引发剂 | 第36-37页 |
| ·硅胶表面印迹聚合物的合成 | 第37-38页 |
| ·模板分子的洗脱 | 第38-39页 |
| ·印迹聚合物的静态吸附性能表征 | 第39-40页 |
| ·紫外可见分光光度法 | 第39页 |
| ·分子印迹聚合物的吸附实验 | 第39-40页 |
| ·不同印迹聚合物的吸附等温线测定 | 第40页 |
| ·分析测试方法 | 第40-41页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第41-63页 |
| ·聚合方法的选择 | 第41-42页 |
| ·聚合材料的选择 | 第42-46页 |
| ·交联剂的选择 | 第42-43页 |
| ·功能单体的选择 | 第43-44页 |
| ·印迹分子的选择 | 第44页 |
| ·致孔剂的选择 | 第44-45页 |
| ·引发条件的选择 | 第45-46页 |
| ·其它影响因素 | 第46页 |
| ·分子印迹机理探讨 | 第46-47页 |
| ·硅胶表面的表征 | 第47-57页 |
| ·硅胶粒子大小和形态 | 第47-48页 |
| ·硅胶表面预处理的最侍条件的确定 | 第48-50页 |
| ·APS改性硅胶(Silica-NH_2)表征 | 第50-52页 |
| ·ACPC引入 APS改性硅胶表面的表征 | 第52-54页 |
| ·印迹聚合物硅胶的表征 | 第54-57页 |
| ·聚合物硅胶的吸附性能研究 | 第57-63页 |
| ·替米考星的光谱性质 | 第57-59页 |
| ·静态平衡吸附量 | 第59页 |
| ·吸附量-时间曲线 | 第59-63页 |
| 第四章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |