以Ti2O3为膜料反应蒸发制备TiO2光学薄膜的研究
| 第1章 绪论 | 第1-31页 |
| ·光学薄膜概论 | 第8-19页 |
| ·光学薄膜的原理与概念 | 第8-13页 |
| ·光学薄膜的应用与实例 | 第13-19页 |
| ·光学薄膜制备技术 | 第19-25页 |
| ·真空蒸发法制备光学薄膜 | 第20-23页 |
| ·真空溅射法制备薄膜 | 第23-25页 |
| ·TiO_2薄膜的制备技术进展 | 第25-29页 |
| ·本课题的立题及主要工作 | 第29-31页 |
| 第2章 离子束辅助沉积镀膜技术 | 第31-36页 |
| ·气体放电与等离子体 | 第31-35页 |
| ·钨阴极 | 第31-33页 |
| ·离子的引出系统 | 第33-35页 |
| ·Kaufman离子源 | 第35-36页 |
| 第3章 Ti-O系化合物 | 第36-43页 |
| ·复杂的Ti-O系化合物 | 第36-37页 |
| ·膜料的选择 | 第37-40页 |
| ·同一蒸发工艺 | 第38页 |
| ·钛-氧系里的同一蒸发相 | 第38-40页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第40-43页 |
| 第4章 薄膜的制备 | 第43-50页 |
| ·实验设备 | 第43-47页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第47-49页 |
| ·检测与设备 | 第49-50页 |
| 第5章 薄膜的性能检测与工艺分析 | 第50-62页 |
| ·薄膜光学特性的检测 | 第50-54页 |
| ·光度法检测薄膜的光学性能 | 第50-52页 |
| ·TiO_2薄膜光学性能分析 | 第52-54页 |
| ·膜料的蒸发特性 | 第54-62页 |
| ·膜料蒸发特性分析 | 第54-59页 |
| ·膜料的蒸发特性对薄膜光学性能的影响 | 第59-60页 |
| ·薄膜形态分析 | 第60-62页 |
| 第6章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第70页 |
