| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-39页 |
| ·热电效应 | 第12-15页 |
| ·Seebeck效应 | 第12-13页 |
| ·Peltier效应 | 第13页 |
| ·Thomson效应 | 第13-14页 |
| ·热电材料的性能参数 | 第14-15页 |
| ·提高热电材料性能的途径 | 第15-19页 |
| ·寻找Seebeck系数较高的材料 | 第15页 |
| ·提高材料的电导率 | 第15-16页 |
| ·降低材料的热导率 | 第16页 |
| ·低维化 | 第16-18页 |
| ·梯度功能材料 | 第18页 |
| ·准晶材料 | 第18-19页 |
| ·热电材料的研究现状与发展 | 第19-31页 |
| ·热电材料的分类 | 第19-28页 |
| ·传统金属合金热电材料 | 第19-21页 |
| ·声子玻璃-电子晶体(PGEC)热电材料 | 第21-23页 |
| ·氧化物热电材料 | 第23-28页 |
| ·热电材料的研究现状与发展 | 第28-29页 |
| ·热电材料的应用 | 第29-31页 |
| ·热电材料的制备 | 第31-38页 |
| ·热电陶瓷的制备 | 第31-32页 |
| ·固相法 | 第31页 |
| ·熔体生长法 | 第31-32页 |
| ·粉末冶金法 | 第32页 |
| ·放电等离子体烧结 | 第32页 |
| ·热电薄膜的制备 | 第32-38页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第32-36页 |
| ·分子束外延 | 第36页 |
| ·化学气相沉积法 | 第36-37页 |
| ·喷雾热分解法 | 第37页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第37页 |
| ·磁控溅射沉积 | 第37-38页 |
| ·本课题的研究意义及内容 | 第38-39页 |
| 第二章 SnO_2陶瓷靶材的制备与表征 | 第39-71页 |
| ·陶瓷靶材的制备 | 第39-41页 |
| ·实验设备 | 第39-40页 |
| ·实验原料 | 第40页 |
| ·实验流程 | 第40-41页 |
| ·烧结工艺 | 第41页 |
| ·样品的表征 | 第41-43页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第41页 |
| ·晶胞参数的计算 | 第41页 |
| ·金相分析 | 第41页 |
| ·扫描电子显微镜分析(SEM) | 第41-42页 |
| ·LCR测试仪 | 第42-43页 |
| ·分析与讨论 | 第43-68页 |
| ·掺铁SnO_2陶瓷靶材XRD物相分析 | 第43-52页 |
| ·纯SnO_2陶瓷样品的XRD图谱分析 | 第43-45页 |
| ·[Fe]/[Sn]=4at%陶瓷靶材的XRD图谱分析 | 第45-47页 |
| ·[Fe]/[Sn]=8at%陶瓷靶材的XRD图谱分析 | 第47-50页 |
| ·不同掺杂量陶瓷靶材的XRD图谱分析 | 第50-52页 |
| ·掺铁SnO_2陶瓷靶材金相分析 | 第52-60页 |
| ·纯SnO_2陶瓷样品的金相照片分析 | 第52-54页 |
| ·[Fe]/[Sn]=4at%陶瓷样品的金相照片分析 | 第54-56页 |
| ·[Fe]/[Sn]=8at%陶瓷样品的金相照片分析 | 第56-58页 |
| ·不同掺杂量陶瓷样品的金相照片分析 | 第58-60页 |
| ·掺铁SnO_2陶瓷样品SEM分析 | 第60-62页 |
| ·掺铁SnO_2陶瓷样品的电阻频率特性 | 第62-64页 |
| ·掺钴SnO_2陶瓷靶材XRD物相分析 | 第64-67页 |
| ·掺钴SnO_2样品的电阻频率特性 | 第67-68页 |
| 本章小结 | 第68-71页 |
| 第三章 薄膜制备 | 第71-75页 |
| ·掺铁SnO_2薄膜结果分析 | 第71-74页 |
| ·氧压对掺铁SnO_2薄膜的影响 | 第71-72页 |
| ·衬底温度对掺铁SnO_2薄膜的影响 | 第72-73页 |
| ·掺铁量对SnO_2薄膜的影响 | 第73-74页 |
| 本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第83页 |
