| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜研究的状况 | 第12-19页 |
| ·国外研究 | 第12-13页 |
| ·国内研究 | 第13-15页 |
| ·ZnO的掺杂研究 | 第15-19页 |
| ·ZnO的p型掺杂原理 | 第15-17页 |
| ·I族元素的掺杂研究 | 第17-18页 |
| ·V族元素掺杂研究 | 第18-19页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第19-21页 |
| ·ZnO薄膜的特性及应用 | 第21-24页 |
| ·ZnO光电性能的应用 | 第22页 |
| ·ZnO用作透明导电材料 | 第22-23页 |
| ·ZnO用作光电器件的单片集成 | 第23页 |
| ·ZnO用于制作表面声波器件 | 第23-24页 |
| ·论文的选题及研究内容 | 第24-26页 |
| ·论文的选题 | 第24页 |
| ·本文主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备方法和分析测试方法 | 第26-33页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第26-30页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第27页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第27-28页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第28-29页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第29-30页 |
| ·ZnO薄膜的测试方法 | 第30-33页 |
| ·XRD测试分析(X-ray diffraction) | 第30-31页 |
| ·SEM(Scanning Electron Micrograph,扫描电镜) | 第31页 |
| ·紫外—可见分光光度计 | 第31页 |
| ·ZnO薄膜电阻率测定 | 第31-33页 |
| 第三章 Na、Mg共掺杂制备ZnO及性能研究 | 第33-49页 |
| ·溶胶—凝胶法的原理及优缺点 | 第33-34页 |
| ·溶胶制备 | 第34-35页 |
| ·衬底清洗 | 第35-36页 |
| ·镀膜方法简介 | 第36-38页 |
| ·旋转涂覆法 | 第36-37页 |
| ·浸渍提拉法 | 第37-38页 |
| ·ZnO薄膜的干燥、预处理及烧结 | 第38页 |
| ·ZnO薄膜的制备工艺基本流程图 | 第38-39页 |
| ·不同镀膜方法对ZnO薄膜性质影响 | 第39-40页 |
| ·掺杂量对ZnO薄膜性质的影响 | 第40-43页 |
| ·掺杂量对ZnO薄膜结构性质影响 | 第40-41页 |
| ·掺杂量对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第41页 |
| ·掺杂量对薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·掺杂量对薄膜电阻率影响 | 第42-43页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜性质的影响 | 第43-45页 |
| ·退火温度对薄膜结构性能的影响 | 第43-44页 |
| ·退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·退火温度对薄膜光学性能影响 | 第45页 |
| ·镀膜层数对ZnO薄膜性质的影响 | 第45-47页 |
| ·镀膜层数对结构性能的影响 | 第45-46页 |
| ·镀膜层数对光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 K、Mg共掺杂ZnO薄膜的制备和光电性能研究 | 第49-69页 |
| ·溶胶的制备 | 第49-50页 |
| ·掺杂量对薄膜性质的影响 | 第50-58页 |
| ·掺杂量对薄膜表面形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·掺K量不变,Mg含量改变 | 第50-51页 |
| ·掺Mg量不变,K含量改变 | 第51-52页 |
| ·掺杂量对薄膜光学性质的影响 | 第52-54页 |
| ·掺Mg量不变,K含量改变 | 第52页 |
| ·掺K量不变,Mg含量改变 | 第52-54页 |
| ·掺杂量对薄膜电学性质的影响 | 第54页 |
| ·掺杂量对薄膜结构性能的影响 | 第54-58页 |
| ·掺Mg量不变,K含量改变 | 第54-56页 |
| ·掺K量不变,Mg含量改变 | 第56-58页 |
| ·预处理温度对薄膜性质的影响 | 第58-60页 |
| ·预处理温度对薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·预处理温度对薄膜光学性能影响 | 第59-60页 |
| ·退火温度对薄膜性质的影响 | 第60-63页 |
| ·退火温度对薄膜表面形貌影响 | 第60-61页 |
| ·退火温度对薄膜结构性能影响 | 第61-63页 |
| ·退火温度对薄膜光学性能的影响 | 第63页 |
| ·镀膜层数对薄膜的性质影响 | 第63-66页 |
| ·能谱分析 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 Na、Mg共掺杂与K、Mg共掺杂性质比较 | 第69-72页 |
| ·(Na,Mg):ZnO与(K,Mg):ZnO薄膜结构比较 | 第69页 |
| ·(Na,Mg):ZnO与(K,Mg):ZnO薄膜光学性能比较 | 第69-70页 |
| ·(Na,Mg):ZnO与(K,Mg):ZnO薄膜电学性能比较 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 附录: 硕士期间发表的论文及参加的活动 | 第79页 |
