| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-16页 |
| 第一章 引言 | 第16-20页 |
| 第二章 超导腔基础 | 第20-30页 |
| ·超导腔结构 | 第20-24页 |
| ·超导腔性能参数 | 第24-26页 |
| ·加速电压V_(acc)和加速电场E_(acc) | 第24-25页 |
| ·品质因子Q_0和几何常数(Geometry Constant)G | 第25-26页 |
| ·分流阻抗(Shunt Impendance)R_a | 第26页 |
| ·表面峰值磁场与平均加速电场比值H_(pk)／E_(acc)： | 第26页 |
| ·度越因子TTF(Transit Time Factor) | 第26页 |
| ·超导腔的极限 | 第26-27页 |
| ·超导腔材料 | 第27-30页 |
| 第三章 低β超导腔设计与力工 | 第30-39页 |
| ·基本参数的选择 | 第30-32页 |
| ·加速梯度E_(acc) | 第30页 |
| ·工作频率f_0 | 第30-31页 |
| ·同步速度β_0 | 第31-32页 |
| ·腔型几何尺寸的选取和优化 | 第32-35页 |
| ·理论解析 | 第32-35页 |
| ·电磁场数值模拟 | 第35页 |
| ·材料和表面处理 | 第35-37页 |
| ·化学抛光和电抛光 | 第36-37页 |
| ·高压超纯水冲洗(HPR) | 第37页 |
| ·加工工艺简介 | 第37-39页 |
| 第四章 超导腔高频性能测量 | 第39-45页 |
| ·腔的三种状态 | 第39-40页 |
| ·稳定态 | 第40页 |
| ·卸载态 | 第40页 |
| ·加载态 | 第40页 |
| ·高频测量设备和电子学 | 第40-41页 |
| ·高频测试 | 第41-45页 |
| ·耦合强度β和衰减时间常数T_L的测量 | 第41-42页 |
| ·Q_0-E曲线测量 | 第42-43页 |
| ·影响超导腔的几个因素 | 第43-45页 |
| 第五章 低温恒温柜简介 | 第45-49页 |
| ·低温恒温柜的热绝缘 | 第45-46页 |
| ·低温工程材料与低温测量 | 第46-47页 |
| ·低温恒温柜的泄漏与失超处理 | 第47-49页 |
| 第六章 BRIF QWR超导腔及主要辅助器件设计 | 第49-72页 |
| ·QWR腔设计 | 第49-62页 |
| ·频率的选择 | 第49-52页 |
| ·QWR腔机械几何尺寸的确定 | 第52-57页 |
| ·高频性能和TTF参数 | 第57-62页 |
| ·QWR腔主要辅助器件 | 第62-68页 |
| ·高频功率耦合器 | 第62-64页 |
| ·机械调谐器 | 第64-67页 |
| ·高频功率探测器 | 第67-68页 |
| ·若干技术要求 | 第68-72页 |
| 第七章 BRIF低温恒温柜设计研究 | 第72-85页 |
| ·低温恒温柜结构 | 第72-77页 |
| ·真空容器 | 第73-75页 |
| ·液氮冷屏 | 第75页 |
| ·液氦罐和支撑系统 | 第75-77页 |
| ·低温恒温柜工作流程 | 第77页 |
| ·密封与隔热 | 第77-80页 |
| ·密封 | 第77-79页 |
| ·隔热 | 第79-80页 |
| ·其它技术要求 | 第80-85页 |
| 第八章 ISOL高质量分辨谱仪物理设计 | 第85-96页 |
| ·几个物理问题 | 第85-90页 |
| ·动量色散、能量色散与质量色散 | 第85-86页 |
| ·质量分辨率R_m | 第86页 |
| ·双铁系统 | 第86-90页 |
| ·ISOL高质量分辨谱仪设计 | 第90-94页 |
| ·概念与布局设计 | 第90-91页 |
| ·优化设计 | 第91-94页 |
| ·设计结果 | 第94-96页 |
| 第九章 TRIUMF ISAC-Ⅱ高能加速段和传输段束流光学预研 | 第96-107页 |
| ·超导腔β值的选取 | 第96-97页 |
| ·高β加速段的设计和分析 | 第97-101页 |
| ·高能束流传输段设计 | 第101-107页 |
| 第十章 总结 | 第107-110页 |
| 附录A ISOL谱仪的TRANSPORT输入文件 | 第110-118页 |
| 参考文献 | 第118-121页 |
| 发表文章目录 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122页 |
