| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第1章 文献综述 | 第9-23页 |
| 1．1 研究背景 | 第9-11页 |
| 1．2 金刚石的氧化现象与机理 | 第11-14页 |
| 1．3 金刚石的制备 | 第14-16页 |
| 1．4 金刚石的红外增透方法 | 第16页 |
| 1．5 金刚石的高温抗氧化保护 | 第16-18页 |
| 1．6 氮化铝薄膜的特征与性能 | 第18-21页 |
| 1．6．1 氮化铝晶体结构 | 第18-19页 |
| 1．6．2 氮化铝薄膜的光学性能 | 第19页 |
| 1．6．3 氮化铝薄膜的高温抗氧化性能 | 第19-21页 |
| 1．7 本文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 膜系设计 | 第23-33页 |
| 2．1 膜系设计的基本理论 | 第23-28页 |
| 2．1．1 膜系设计的一般原理 | 第23-25页 |
| 2．1．2 膜系评价函数 | 第25页 |
| 2．1．3 最优化方法 | 第25-27页 |
| 2．1．4 增透保护膜系设计 | 第27-28页 |
| 2．2 金刚石衬底上增透保护膜系的设计 | 第28-32页 |
| 2．3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 工艺实验内容和方法 | 第33-48页 |
| 3．1 射频磁控反应溅射的原理 | 第33-36页 |
| 3．1．1 射频磁控的原理与特性 | 第34-35页 |
| 3．1．2 反应溅射的原理与特性 | 第35-36页 |
| 3．2 工艺流程 | 第36-38页 |
| 3．3 试验装置结构 | 第38-39页 |
| 3．4 基本工艺参数的选择 | 第39-40页 |
| 3．5 薄膜的分析 | 第40-47页 |
| 3．5．1 红外光学性能测量 | 第40-41页 |
| 3．5．2 薄膜成分分析 | 第41-42页 |
| 3．5．3 薄膜结构分析 | 第42页 |
| 3．5．4 原子力显微分析(AFM) | 第42-43页 |
| 3．5．5 折射系数n与厚度d的确定 | 第43-46页 |
| 3．5．6 薄膜附着力测量 | 第46-47页 |
| 3．6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第48-73页 |
| 4．1 基本工艺参数对沉积速率的影响规律 | 第48-49页 |
| 4．2 AlN薄膜的粗糙度以及厚度均匀性 | 第49-50页 |
| 4．3 AlN薄膜的结构 | 第50-58页 |
| 4．3．1 典型的AlN薄膜结构分析 | 第50-51页 |
| 4．3．2 沉积温度对薄膜结构的影响 | 第51-53页 |
| 4．3．3 N_2/Ar流量比对薄膜结构的影响 | 第53页 |
| 4．3．4 溅射功率对薄膜结构的影响 | 第53-55页 |
| 4．3．5 薄膜生长机理 | 第55-56页 |
| 4．3．6 热处理对AlN薄膜结构的影响 | 第56-58页 |
| 4．4 AlN薄膜的成分 | 第58-61页 |
| 4．5 AlN薄膜的光学性能 | 第61-63页 |
| 4．6 AlN薄膜的附着性能 | 第63-67页 |
| 4．6．1 生长温度对AlN薄膜附着性能的影响 | 第64-66页 |
| 4．6．2 溅射功率对薄膜附着性能的影响 | 第66-67页 |
| 4．7 金刚石基片镀膜的光学性能 | 第67-72页 |
| 4．7．1 AlN/Si//diamond膜系光学性能 | 第67-69页 |
| 4．7．2 AlN/Ge//diamond膜系光学性能 | 第69-72页 |
| 4．8 本章小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所获得的奖励 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |