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硅(001)表面上硅化铒纳米结构的扫描隧道电子显微镜研究

摘要第1-4页
Abstract第4-6页
Content第6-8页
Chapter 1 Introduction第8-13页
     ·Background第8-10页
     ·Thesis organization第10-11页
 References:第11-13页
Chapter 2 Experimental Background第13-25页
     ·Scanning tunneling microscopy第13-17页
     ·Si(001) substrates第17-21页
     ·Experimental methods第21-24页
 References第24-25页
Chapter 3 ErSi_(2-x) nanostructures growth on vicinal Si(001)第25-52页
     ·Introduction第25页
     ·Experiments第25-26页
     ·Experimental Results第26-34页
       ·Annealing Temperature Effect第28-30页
       ·Annealing Time Effect第30-32页
       ·Coverage Effect第32-34页
     ·Discussion第34-49页
       ·Structure of nanowires and nanoislands第34-39页
       ·Evolution of ErSi_(2-x) nanowire第39-47页
       ·Transition to nanoisland第47-49页
     ·Conclusion第49-50页
 References第50-52页
Chapter 4 Interfacial structure between ErSi_2nanowire and Si(001)第52-72页
     ·Introduction第52页
     ·A comparison between nanowire growth on flat and vicinal surface第52-60页
     ·Interfacial structure of ErSi_2/Si(001)第60-63页
     ·Surface reconstruction and nanowire第63-68页
     ·The source of reactant第68-70页
     ·Conclusion第70页
 References:第70-72页
Chapter 5 Shape transition of ErSi_(2-x) nanoislands第72-91页
     ·Introduction第72-74页
     ·Experimental results第74-80页
     ·Tersoff equation第80-83页
     ·Modification of Tersoff equation第83-87页
     ·Conclusion第87-88页
 References第88-91页
Publication第91-92页
Acknowledgement第92-94页

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