| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·真空开关的发展简介 | 第8页 |
| ·真空灭弧室的基本结构和工作原理 | 第8-9页 |
| ·本课题的研制背景 | 第9-11页 |
| ·本课题的研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 真空灭弧室电弧控制技术 | 第13-23页 |
| ·真空间隙的击穿机理概述 | 第13-14页 |
| ·电子发射引起的预击穿机理——场电子发射理论 | 第13页 |
| ·阴极或阳极引起的击穿 | 第13-14页 |
| ·微粒引起的击穿机理——微粒说 | 第14页 |
| ·真空电弧的形态 | 第14-15页 |
| ·真空电弧的控制技术 | 第15-23页 |
| ·横向磁场触头 | 第16页 |
| ·纵向磁场触头 | 第16-18页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的作用 | 第18-20页 |
| ·纵向磁场强度对开断性能的影响 | 第20-23页 |
| 第三章 四极纵向磁场触头的研究及仿真分析 | 第23-44页 |
| ·四极纵向磁场触头的结构原理 | 第23-24页 |
| ·四极纵向磁场触头的结构设计 | 第24-25页 |
| ·四极纵向磁场触头结构的材料 | 第25-27页 |
| ·触头材料 | 第25-26页 |
| ·铁磁片材料 | 第26-27页 |
| ·四极纵向磁场触头的磁场仿真分析 | 第27-44页 |
| ·触头仿真分析模型的建立 | 第27-28页 |
| ·Φ70mm触头的磁场仿真分析 | 第28-38页 |
| ·整体铁芯磁场仿真分析 | 第29-35页 |
| ·叠片铁芯磁场仿真分析 | 第35-38页 |
| ·Φ58mm触头的磁场仿真分析 | 第38页 |
| ·Φ80mm触头的磁场仿真分析 | 第38-44页 |
| 第四章 四极纵向磁场触头性能的实验与分析 | 第44-52页 |
| ·四极纵向磁场触头真空灭弧室的装配 | 第44-45页 |
| ·四极纵向磁场触头真空灭弧室的静态参数测试 | 第45页 |
| ·四极纵向磁场触头真空灭弧室的短路电流开断能力实验 | 第45-49页 |
| ·合成回路的构成原理 | 第45-46页 |
| ·本实验所采用的合成回路 | 第46-47页 |
| ·实验步骤 | 第47-49页 |
| ·实验结果与分析 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |