| 第一章 引言 | 第1-22页 |
| ·显示器发展趋势 | 第10-12页 |
| ·场致电子发射研究及其应用进展 | 第12-15页 |
| ·金属微尖锥型研究及应用进展 | 第12-13页 |
| ·硅尖锥型研究及其应用进展 | 第13-14页 |
| ·金刚石薄膜型研究及其应用进展 | 第14-15页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射的研究及其应用进展 | 第15-18页 |
| ·本工作主要研究内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 理论基础与实验方法 | 第22-46页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第23-25页 |
| ·场电子发射的理论基础 | 第25-32页 |
| ·Fowler-Nordheim理论 | 第25-28页 |
| ·碳纳米管场发射机制 | 第28-30页 |
| ·影响非线性关系的几个因素 | 第30-31页 |
| ·改善碳纳米管场发射性能的途径 | 第31-32页 |
| ·用于场发射碳纳米管薄膜的制备 | 第32-35页 |
| ·无序碳纳米管薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·有序碳纳米管薄膜的制备 | 第33-35页 |
| ·碳纳米管的生长机理研究 | 第35-38页 |
| ·电弧中碳纳米管的生长机理模型 | 第36页 |
| ·CVD方法制备碳纳米管的生长机理 | 第36-38页 |
| ·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机理 | 第38页 |
| ·CVD法制备定向碳纳米管薄膜的取向机制 | 第38-39页 |
| ·范德华相互作用力取向机制 | 第38-39页 |
| ·微波等离子体诱导取向机制 | 第39页 |
| ·取向生长碳纳米管与工艺参数的关系 | 第39页 |
| ·碳纳米管薄膜的表征 | 第39-43页 |
| ·碳纳米管薄膜的SEM表征 | 第39-40页 |
| ·碳纳米管薄膜的TEM表征 | 第40页 |
| ·碳纳米管薄膜的Raman光谱表征 | 第40-41页 |
| ·碳纳米管薄膜的XRD光谱表征 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 第三章 刻线镍膜上沉积碳纳米管薄膜的场发射特性 | 第46-70页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验 | 第46-56页 |
| ·催化剂膜的制备方法及原理 | 第46-49页 |
| ·溅射法原理 | 第47-48页 |
| ·影响膜层质量的因素 | 第48页 |
| ·催化剂膜的制备 | 第48-49页 |
| ·碳纳米管膜的制备方法及实验装置 | 第49-50页 |
| ·微波等离子体CVD法沉积碳纳米管膜的机理 | 第50-51页 |
| ·碳纳米管膜场发射性能的测定 | 第51-56页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射性能的主要指标 | 第51-54页 |
| ·测量碳纳米管薄膜场发射性能的几种结构模型 | 第54-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-67页 |
| ·样品的相结构分析 | 第56-64页 |
| ·碳纳米管膜的场发射性能 | 第64-66页 |
| ·碳纳米管场发射特性探讨 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第四章 不锈钢衬底直接沉积碳纳米管薄膜的场发射特性 | 第70-97页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·不锈钢衬底上碳纳米管薄膜的制备及场发射特性 | 第71-79页 |
| ·实验 | 第71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-79页 |
| ·基底的预处理条件对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第79-83页 |
| ·基底表面的预处理条件 | 第79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-83页 |
| ·沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第83-93页 |
| ·沉积条件 | 第83-84页 |
| ·沉积工艺参数对碳纳米管质量的影响 | 第84-89页 |
| ·制备工艺条件对碳纳米管场发射性能的影响 | 第89-92页 |
| ·无序碳纳米管场发射机理探讨 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第五章 碳纳米管薄膜场发射器件的制备 | 第97-109页 |
| ·引言 | 第97-98页 |
| ·场致电子发射发光管的结构 | 第98-99页 |
| ·发光管的性能参数 | 第99-101页 |
| ·碳纳米管基场发射发光管研究进展 | 第101-102页 |
| ·碳纳米管基三极发光管的工作原理 | 第102页 |
| ·三极管结构器件的封装 | 第102-105页 |
| ·三极管结构器件的设计 | 第102-103页 |
| ·器件的封装 | 第103-105页 |
| ·器件的性能测试 | 第105-107页 |
| ·电流与电压特性 | 第105-106页 |
| ·场发射电流密度与稳定性 | 第106页 |
| ·亮度 | 第106-107页 |
| ·电子透过率 | 第107页 |
| ·本章结论 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-109页 |
| 第六章 结论 | 第109-111页 |
| 附录1: 攻读博士期间发表的论文及成果 | 第111-112页 |
| 附录2: 致谢 | 第112页 |