| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-19页 |
| ·太阳能电池研究的意义及其发展趋势 | 第8-10页 |
| ·晶体硅太阳能电池新技术的发展情况 | 第10-11页 |
| ·从硅太阳能电池发展趋势看硅片表面绒面化处理研究的意义 | 第11-12页 |
| ·多晶硅太阳电池绒面制备技术 | 第12-17页 |
| ·机械刻槽工艺 | 第13-14页 |
| ·反应离子刻蚀技术 | 第14页 |
| ·湿法腐蚀 | 第14-17页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第17-19页 |
| 第2章 多晶硅片在HF/HNO_3/H_2O体系中的刻蚀研究 | 第19-33页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·国内外对硅晶体表面在HF/HNO_3/H_2O等酸性体系中的刻蚀机理与动力学研究 | 第19-23页 |
| ·实验方法 | 第23-25页 |
| ·实验结果与讨论 | 第25-32页 |
| ·刻蚀速率 | 第25-28页 |
| ·表面形貌 | 第28-30页 |
| ·反射率 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 超声波辅助酸刻蚀法制备多晶硅减反射绒面 | 第33-41页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-35页 |
| ·实验结果和讨论 | 第35-40页 |
| ·刻蚀速率 | 第35-36页 |
| ·表面形貌 | 第36-38页 |
| ·反射特性 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 多晶硅片紫外线辐照增强酸腐蚀研究 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验方法 | 第41-46页 |
| ·正交实验 | 第43-44页 |
| ·紫外辐照下的HF/HBr体系实验 | 第44-46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-53页 |
| ·正交实验结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·腐蚀速率 | 第49页 |
| ·表面形貌 | 第49-52页 |
| ·反射特性 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 总结与展望 | 第55-58页 |
| ·研究结论 | 第55-56页 |
| ·本文创新点 | 第56页 |
| ·对多晶硅表面减反射技术研究与发展的展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第64页 |
