磁力驱动下的化学机械光整加工技术研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-15页 |
·研究背景和研究意义 | 第8-9页 |
·研究背景 | 第8-9页 |
·研究意义 | 第9页 |
·国内外研究现状及存在问题 | 第9-14页 |
·化学抛光的研究现状及存在问题 | 第9-12页 |
·磁粒光整加工技术的国内外研究现状及存在问题 | 第12-14页 |
·研究思路及主要工作 | 第14-15页 |
·研究思路 | 第14页 |
·主要工作 | 第14-15页 |
2 磁粒光整加工工艺和化学抛光工艺研究 | 第15-34页 |
·磁粒光整加工工艺研究 | 第15-26页 |
·磁场中磨料的受力分析 | 第15-21页 |
·磁性研磨刷的受力 | 第21页 |
·磁力光整加工的机理 | 第21-24页 |
·磁力光整加工工艺的特点 | 第24-25页 |
·磁性磨粒的自砺 | 第25页 |
·干研与湿研 | 第25-26页 |
·传统的三酸抛光工艺研究 | 第26-34页 |
·三酸化学抛光机理 | 第26-27页 |
·三酸抛光液中各成分的主要作用 | 第27-30页 |
·常见的三酸抛光液配方 | 第30-31页 |
·影响三酸抛光质量的因素 | 第31-32页 |
·三酸抛光存在问题 | 第32-34页 |
3 装置设计及加工过程分析研究 | 第34-44页 |
·装置介绍 | 第34-36页 |
·装置原理简介 | 第35页 |
·装置中各零部件的作用 | 第35-36页 |
·操作注意事项 | 第36页 |
·机理分析 | 第36-40页 |
·验证实验 | 第40-42页 |
·工艺特点 | 第42页 |
·存在缺陷 | 第42-44页 |
4 环保型化学抛光液研究 | 第44-55页 |
·抛光液制备方法及研究过程 | 第44-45页 |
·化学试剂及所需材料设备 | 第44-45页 |
·研究方法和步骤 | 第45页 |
·抛光后试片的评价指标 | 第45页 |
·抛光液和抛光条件对抛光质量的影响规律 | 第45-53页 |
·抛光液中三种主要成分对抛光质量的影响 | 第45-50页 |
·抛光条件对抛光质量的影响 | 第50-53页 |
·推荐加工方案 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-58页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
致谢 | 第59-60页 |