| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·ZnO薄膜的研究背景和历史 | 第8-9页 |
| ·ZnO薄膜的结构和基本性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO薄膜的发光机制 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜的导电机制 | 第12页 |
| ·ZnO薄膜的掺杂 | 第12-14页 |
| ·光学掺杂 | 第12-13页 |
| ·电学掺杂 | 第13-14页 |
| ·稀磁半导体 | 第14页 |
| ·Co-ZnO的研究现状 | 第14-16页 |
| ·本文的研究意义和工作 | 第16-17页 |
| 第二章 样品制备方法及表征手段 | 第17-29页 |
| ·实验设备和原理 | 第17-20页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第17-19页 |
| ·射频磁控溅射实验装置简介 | 第19页 |
| ·设备主要结构和参数 | 第19-20页 |
| ·样品制备流程 | 第20-21页 |
| ·样品的分析与检测 | 第21-29页 |
| ·X射线衍射仪 | 第21-22页 |
| ·X射线光电子仪 | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜 | 第23-24页 |
| ·紫外分光光度计 | 第24-26页 |
| ·分子荧光光度计 | 第26-27页 |
| ·霍尔效应测试系统 | 第27-29页 |
| 第三章 Co掺杂含量对Co-ZnO薄膜结构和光电性能的影响 | 第29-39页 |
| ·样品制备条件 | 第29页 |
| ·Co掺杂含量对薄膜晶体结构和表面形貌的影响 | 第29-34页 |
| ·薄膜晶体结构 | 第29-31页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第31-32页 |
| ·薄膜的化学组分 | 第32-34页 |
| ·Co掺杂含量对薄膜的光电性能的影响 | 第34-37页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第34-35页 |
| ·薄膜的透射光谱 | 第35-36页 |
| ·薄膜的发光光谱 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 氧气含量对Co-ZnO薄膜结构和光电性能的影响 | 第39-46页 |
| ·样品制备条件 | 第39页 |
| ·氧氩气流速比对薄膜晶体结构和表面形貌的影响 | 第39-42页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第39-40页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第40-42页 |
| ·氧氩气流速比对薄膜光电性能的影响 | 第42-44页 |
| ·薄膜的导电性能 | 第42-43页 |
| ·薄膜的透射光谱 | 第43页 |
| ·薄膜的发光光谱 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 ZnO薄膜和Co-ZnO薄膜结构和光电性能对比 | 第46-51页 |
| ·ZnO薄膜和Co-ZnO薄膜晶体结构和表面形貌的对比 | 第46-48页 |
| ·晶体结构对比 | 第46-47页 |
| ·表面形貌对比 | 第47-48页 |
| ·ZnO薄膜和Co-ZnO薄膜光电性能的对比 | 第48-49页 |
| ·导电性能的对比 | 第48页 |
| ·透射光谱对比 | 第48-49页 |
| ·光致发光光谱对比 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第六章 结论与展望 | 第51-53页 |
| ·论文的主要工作 | 第51-52页 |
| ·下一步的工作展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第61页 |
