基于光场成像原理的微纳结构检测方法研究
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第16-34页 |
1.1 研究背景 | 第16-17页 |
1.2 微纳结构检测方法现状 | 第17-22页 |
1.2.1 非光学检测方法 | 第17-20页 |
1.2.2 光学检测方法 | 第20-22页 |
1.3 光场检测技术研究现状 | 第22-31页 |
1.3.1 光场成像技术的发展 | 第23-28页 |
1.3.2 光场三维测量研究现状 | 第28-31页 |
1.4 本论文研究内容 | 第31-32页 |
1.5 论文结构安排 | 第32-34页 |
第2章 微纳结构光场检测模型研究 | 第34-52页 |
2.1 引言 | 第34页 |
2.2 光场成像技术基本原理 | 第34-38页 |
2.2.1 光场双平面四维光场函数 | 第35-36页 |
2.2.2 基于微透镜阵列的光场采集方式 | 第36-38页 |
2.3 光场图像处理方法研究 | 第38-43页 |
2.3.1 光场图像视角变换及EPI图像抽取 | 第38-40页 |
2.3.2 光场图像数字重聚焦 | 第40-43页 |
2.4 微纳结构光场检测模型研究 | 第43-47页 |
2.4.1 基于微透镜阵列的光场检测光学模型建立 | 第43-44页 |
2.4.2 基于几何光学的数学仿真模型研究 | 第44-46页 |
2.4.3 系统分辨率 | 第46-47页 |
2.5 检测系统光场成像仿真 | 第47-51页 |
2.5.1 直接成像及重聚焦仿真 | 第47-50页 |
2.5.2 光场成像点扩散函数模拟测量 | 第50-51页 |
2.6 小结 | 第51-52页 |
第3章 光场深度信息提取方法 | 第52-64页 |
3.1 引言 | 第52页 |
3.2 基于数字重聚焦的聚焦深度提取方法 | 第52-57页 |
3.2.1 聚焦深度提取原理 | 第52-53页 |
3.2.2 基于清晰度评价函数的深度提取 | 第53-57页 |
3.3 基于光场数据分析的深度提取方法 | 第57-60页 |
3.3.1 EPI图像与视差深度的对应关系 | 第58-59页 |
3.3.2 像素匹配深度提取 | 第59-60页 |
3.4 双线索融合光场深度估计方法 | 第60-62页 |
3.4.1 光场深度双线索分析 | 第60-61页 |
3.4.2 双线索融合算法 | 第61-62页 |
3.5 本章小结 | 第62-64页 |
第4章 核心器件微透镜列阵的制备 | 第64-96页 |
4.1 引言 | 第64-65页 |
4.2 制备技术分析 | 第65-75页 |
4.2.1 微透镜参数要求 | 第65页 |
4.2.2 移动掩模法 | 第65-68页 |
4.2.3 光刻胶特性的深入研究 | 第68-75页 |
4.3 曝光阈值面形控制技术 | 第75-92页 |
4.3.1 曝光阈值特性研究 | 第76-77页 |
4.3.2 曝光阈值面形控制方法模型 | 第77-84页 |
4.3.3 曝光阈值面形控制方法的简化 | 第84-92页 |
4.4 实验制作说明 | 第92-94页 |
4.5 本章小结 | 第94-96页 |
第5章 微纳结构光场检测系统研究 | 第96-112页 |
5.1 系统设计基础 | 第96-99页 |
5.1.1 显微物镜设计选型 | 第96-98页 |
5.1.2 成像探测器设计选型 | 第98-99页 |
5.2 微透镜阵列参数设计 | 第99-103页 |
5.2.1 微透镜尺寸 | 第100-102页 |
5.2.2 微透镜阵列焦距 | 第102-103页 |
5.3 实验装置装调误差 | 第103-107页 |
5.3.1 检测实验系统概述 | 第103-105页 |
5.3.2 耦合距离误差 | 第105页 |
5.3.3 微透镜阵列旋转角度误差 | 第105-106页 |
5.3.4 微透镜阵列倾角误差 | 第106-107页 |
5.4 实验结果 | 第107-110页 |
5.5 本章小节 | 第110-112页 |
第6章 基于微透镜阵列的干涉成像方法研究 | 第112-130页 |
6.1 引言 | 第112页 |
6.2 基于微透镜阵列的干涉成像基础理论研究 | 第112-115页 |
6.2.1 范西特泽尼克定理[107] | 第112-114页 |
6.2.2 图像重构原理研究 | 第114-115页 |
6.3 基于微透镜阵列的干涉成像模型研究 | 第115-119页 |
6.3.1 微透镜阵列排布和配对方式 | 第115-116页 |
6.3.2 基于微透镜阵列的干涉成像建模 | 第116-119页 |
6.4 数值仿真实验研究 | 第119-128页 |
6.4.1 基线与干涉条纹的关系 | 第120-122页 |
6.4.2 扩展光源干涉成像仿真分析 | 第122-128页 |
6.5 小节 | 第128-130页 |
第7章 总结与展望 | 第130-132页 |
7.1 本论文的主要研究内容 | 第130-131页 |
7.2 本论文的主要创新点 | 第131页 |
7.3 后续工作展望 | 第131-132页 |
参考文献 | 第132-140页 |
致谢 | 第140-142页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第142-143页 |