| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-31页 |
| ·透明导电薄膜的研究意义 | 第13-15页 |
| ·TCO 的研究现状 | 第15-21页 |
| ·透明导体的分类及组成 | 第15页 |
| ·透明导体的基本特性 | 第15-21页 |
| ·几种常见的透明导电氧化物的性质 | 第21-27页 |
| ·氧化铟(In_2o_3) | 第21-22页 |
| ·二氧化锡(Sno_2) | 第22-24页 |
| ·氧化铟锡(ITO) | 第24-27页 |
| ·一些常见的TCO 材料的最优性能 | 第27页 |
| ·透明导电氧化物的主要应用领域 | 第27-29页 |
| ·透明导电氧化物将来研究的重点 | 第29-31页 |
| 第2章 TCO 薄膜的制备技术及表征手段 | 第31-57页 |
| ·TCO 薄膜的几种常见制备技术 | 第31-42页 |
| ·真空热蒸发法 | 第31-36页 |
| ·磁控溅射法 | 第36-38页 |
| ·电子束蒸发 | 第38-40页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第40-41页 |
| ·溶胶凝胶制备技术(Sol-gel) | 第41-42页 |
| ·TCO 薄膜的表征手段 | 第42-56页 |
| ·透过率和吸收系数 | 第42-44页 |
| ·霍尔效应 | 第44-47页 |
| ·开尔文探针 | 第47-49页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第49-51页 |
| ·原子力显微镜 | 第51-53页 |
| ·X 射线衍射 | 第53-55页 |
| ·光致发光光谱 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第3章 新型二元 TCO 薄膜制备及特性研究 | 第57-73页 |
| ·IVO薄膜的光电特性 | 第58-67页 |
| ·IVO 薄膜的制备与处理 | 第58页 |
| ·OLED 器件的制备 | 第58-60页 |
| ·IVO 的电学性质 | 第60-62页 |
| ·IVO 薄膜的光学性质 | 第62-63页 |
| ·OLED 器件性能的比较 | 第63-67页 |
| ·IBO 薄膜的光电特性 | 第67-71页 |
| ·IBO 薄膜的制备及OLED 器件的制备 | 第67页 |
| ·IBO 薄膜的电学特性 | 第67-69页 |
| ·IBO 薄膜的光学特性 | 第69-70页 |
| ·基于IBO 薄膜衬底的OLED 性能 | 第70-71页 |
| ·小结 | 第71-73页 |
| 第4章 新型三元 TCO 薄膜的制备及性能 | 第73-89页 |
| ·IMTO 的光电特性 | 第74-82页 |
| ·IMTO 薄膜及OLED 的制备 | 第74-76页 |
| ·IMTO 的AFM 及EDX 特征 | 第76-77页 |
| ·IMTO 样品的光学特性 | 第77-79页 |
| ·IMTO 的电学特性 | 第79-81页 |
| ·基于IMTO 的OLED 器件的性能 | 第81-82页 |
| ·IPTO 薄膜的光电特性 | 第82-88页 |
| ·IPTO 薄膜及相应的OLED 器件的制备 | 第82-84页 |
| ·IPTO 薄膜的AFM 及XRD 结果分析 | 第84-85页 |
| ·IPTO 的光学特性 | 第85-86页 |
| ·IPTO 的功函数特性 | 第86-87页 |
| ·基于IPTO 的OLED 的器件的性能 | 第87-88页 |
| ·小结 | 第88-89页 |
| 第5章 高性能的 ILTO 薄膜及其对有机发光及光伏器件的影响 | 第89-101页 |
| ·薄膜的制备及相应器件的制备 | 第90-91页 |
| ·样品的EDX 及形貌分析 | 第91-93页 |
| ·样品的光学及PL 特征 | 第93-95页 |
| ·样品的电学及功函数特性 | 第95-97页 |
| ·ILTO 对有机光电器件的影响 | 第97-99页 |
| ·小结 | 第99-101页 |
| 第6章 总结与展望 | 第101-105页 |
| ·总结 | 第101-102页 |
| ·展望 | 第102-105页 |
| 参考文献 | 第105-115页 |
| 指导教师及作者简介 | 第115-117页 |
| 指导教师简介 | 第115页 |
| 作者简介 | 第115-117页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119页 |