| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 二氧化钛薄膜概述 | 第10-13页 |
| 1.2.1 二氧化钛薄膜光催化抗菌原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 二氧化钛薄膜制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2.3 二氧化钛薄膜改性方法 | 第12-13页 |
| 1.3 表面微图形结构化增强光吸收的原理 | 第13-14页 |
| 1.3.1 增强二氧化钛薄膜光吸收的方法 | 第13页 |
| 1.3.2 表面微图形增强光吸收的原理 | 第13-14页 |
| 1.4 研究目的、意义及内容 | 第14-15页 |
| 1.5 实验材料及表征方法 | 第15-17页 |
| 1.5.1 实验材料 | 第15-16页 |
| 1.5.2 实验设备 | 第16页 |
| 1.5.3 表征方法 | 第16-17页 |
| 2 光刻工艺和掩膜制作 | 第17-32页 |
| 2.1 光刻工艺 | 第17-21页 |
| 2.1.1 光刻简介 | 第17页 |
| 2.1.2 光刻的光学基础 | 第17-19页 |
| 2.1.3 光刻的工艺流程 | 第19-21页 |
| 2.2 光刻胶简介及旋涂工艺 | 第21-24页 |
| 2.2.1 光刻胶简介 | 第21页 |
| 2.2.2 光刻胶的分类 | 第21-22页 |
| 2.2.3 星泰克SUN-125PSS简介以及旋涂工艺 | 第22-24页 |
| 2.3 μPG501直写光刻及工艺探究 | 第24-31页 |
| 2.3.1 μPG501型光刻机简介 | 第24-25页 |
| 2.3.2 CAD绘图规则 | 第25-27页 |
| 2.3.3 曝光工艺调节 | 第27-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 离子束刻蚀工艺和图形转移 | 第32-42页 |
| 3.1 离子束刻蚀 | 第32-34页 |
| 3.1.1 离子束刻蚀技术 | 第32页 |
| 3.1.2 离子源系统及刻蚀机简介 | 第32-34页 |
| 3.2 离子束刻蚀工艺 | 第34-39页 |
| 3.2.1 离子束刻蚀工艺试验 | 第34-35页 |
| 3.2.2 不同材料的刻蚀速率 | 第35-38页 |
| 3.2.3 离子束能量和束流对刻蚀速率的影响 | 第38-39页 |
| 3.3 离子束刻蚀图形转移与光刻胶的相关因素 | 第39-41页 |
| 3.3.1 离子束刻蚀前后图形对比 | 第39-40页 |
| 3.3.2 去除残胶和刻蚀高深宽比的图形 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 4 互补微图形结构增强Ti-0薄膜的光催化性能 | 第42-52页 |
| 4.1 图形设计及工艺流程 | 第42-44页 |
| 4.1.1 图形设计 | 第42页 |
| 4.1.2 互补微图形薄膜的制备 | 第42-44页 |
| 4.2 图形表面形貌分析 | 第44-45页 |
| 4.3 光催化实验及其优化 | 第45-51页 |
| 4.3.1 互补微图形光催化实验 | 第45-46页 |
| 4.3.2 光催化实验优化 | 第46-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 多种微图形结构薄膜光催化对比及其抗菌实验 | 第52-59页 |
| 5.1 图形设计 | 第52-54页 |
| 5.1.1 四种图形构想 | 第52-53页 |
| 5.1.2 形貌分析 | 第53-54页 |
| 5.2 透光率测试 | 第54-56页 |
| 5.3 光降解及抗菌实验 | 第56-59页 |
| 5.3.1 光降解 | 第56页 |
| 5.3.2 抗菌测试 | 第56-59页 |
| 6 结论及展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 硕士期间成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |