自由基聚合法超细包覆酞菁蓝颜料的制备及其性能
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-14页 |
| ·有机颜料的分散及稳定机理 | 第8-11页 |
| ·有机颜料的分散 | 第8-9页 |
| ·颜料的润湿 | 第8页 |
| ·颜料聚集体的粉碎 | 第8-9页 |
| ·颜料粒子的稳定化 | 第9页 |
| ·分散稳定机理 | 第9-11页 |
| ·双电层理论(DLVO 理论) | 第9-10页 |
| ·空间位阻稳定机理 | 第10-11页 |
| ·竭尽稳定机理 | 第11页 |
| ·有机颜料的表面改性方法 | 第11-12页 |
| ·松香及松香衍生物的表面处理 | 第11页 |
| ·表面衍生物处理法 | 第11页 |
| ·包覆法 | 第11-12页 |
| ·其它方法 | 第12页 |
| ·本课题研究的目的、思路和意义 | 第12-14页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第12-13页 |
| ·本课题研究的思路 | 第13-14页 |
| 第二章 实验部分 | 第14-19页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第14-16页 |
| ·实验药品和材料 | 第14-15页 |
| ·实验设备与仪器 | 第15-16页 |
| ·实验方法 | 第16-17页 |
| ·超细酞菁蓝预分散体(PDS)的制备 | 第16页 |
| ·超细包覆颜料(CDS)的制备 | 第16-17页 |
| ·引发剂种类 | 第17页 |
| ·共聚单体 | 第17页 |
| ·共聚单体用量 | 第17页 |
| ·引发剂用量 | 第17页 |
| ·反应温度和时间 | 第17页 |
| ·测试和表征 | 第17-19页 |
| ·粒径 | 第17页 |
| ·Zeta 电位 | 第17页 |
| ·表观粘度 | 第17页 |
| ·产率 | 第17-18页 |
| ·离心稳定性 | 第18页 |
| ·耐酸碱稳定性 | 第18页 |
| ·耐热稳定性 | 第18页 |
| ·放置稳定性 | 第18页 |
| ·耐盐稳定性 | 第18页 |
| ·红外光谱表征(FT-IR) | 第18页 |
| ·X 衍射(XRD) | 第18页 |
| ·接触角 | 第18页 |
| ·热失重(TGA) | 第18页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第18-19页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第19-43页 |
| ·超细酞菁蓝预分散体的制备 | 第19-25页 |
| ·分散设备的选择 | 第19页 |
| ·可聚合分散剂的选择 | 第19-20页 |
| ·ANPS 用量 | 第20-23页 |
| ·研磨转速 | 第23-24页 |
| ·研磨时间 | 第24-25页 |
| ·超细包覆酞菁蓝水基体系的制备 | 第25-30页 |
| ·引发剂的选择 | 第25页 |
| ·共聚单体的选择 | 第25-27页 |
| ·单体用量 | 第27页 |
| ·引发剂用量 | 第27-28页 |
| ·反应温度和时间 | 第28-30页 |
| ·超细包覆酞菁蓝水基体系的胶体性能 | 第30-31页 |
| ·粒径分布 | 第30页 |
| ·Zeta 电位 | 第30-31页 |
| ·特性粘度曲线 | 第31页 |
| ·表征 | 第31-37页 |
| ·红外光谱分析(FT-IR) | 第31-32页 |
| ·X 衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·接触角 | 第33-34页 |
| ·热失重(TGA) | 第34-36页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第36-37页 |
| ·稳定性 | 第37-43页 |
| ·离心稳定性 | 第37页 |
| ·耐酸碱稳定性 | 第37-39页 |
| ·耐热稳定性 | 第39-40页 |
| ·放置稳定性 | 第40-41页 |
| ·耐电解质稳定性 | 第41-43页 |
| ·NaCl 对超细酞菁蓝水基体系性能影响 | 第41-42页 |
| ·AlCl_3 对超细酞菁蓝水基体系性能的影响 | 第42-43页 |
| 第四章 结论 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第48页 |
