中文摘要 | 第3-5页 |
英文摘要 | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第12-38页 |
1.1 ZnO材料特性概述 | 第12-16页 |
1.1.1 ZnO研究概况 | 第12-13页 |
1.1.2 ZnO基本性质 | 第13-16页 |
1.2 金属有机化学气相沉积系统 | 第16-23页 |
1.2.1 金属化学气相沉积的基本过程 | 第16-20页 |
1.2.2 金属化学气相沉积系统的基本结构 | 第20-23页 |
1.3 高失配合金材料研究简介 | 第23-31页 |
1.3.1 高失配合金的基本性质及研究概况 | 第23-25页 |
1.3.2 ZnO基阴离子替代高失配合金材料的研究 | 第25-31页 |
1.4 本文研究动机及结构 | 第31-32页 |
本章参考文献 | 第32-38页 |
第二章 基于计算机的材料生长自动化控制模块开发 | 第38-52页 |
2.1 材料生长过程中的生长条件控制 | 第39-41页 |
2.2 自动化生长控制模块的硬件设计 | 第41-43页 |
2.3 基于计算机的自动化生长控制模块软件编程 | 第43-49页 |
2.4 本章小结 | 第49-51页 |
本章参考文献 | 第51-52页 |
第三章 ZnO_(1-x)S_x合金薄膜的生长处理与表征分析 | 第52-90页 |
3.1 实验设计及工艺 | 第52-54页 |
3.2 ZnO_(1-x)S_x合金薄膜的生长与处理 | 第54-56页 |
3.3 ZnO_(1-x)S_x薄膜表征与分析 | 第56-82页 |
3.4 结果分析与讨论 | 第82-84页 |
3.5 本章小结 | 第84-85页 |
本章参考文献 | 第85-90页 |
第四章 总结 | 第90-92页 |
在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第92-93页 |
致谢 | 第93-94页 |