| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 光催化技术的应用背景与原理 | 第12-13页 |
| 1.2 卤氧化铋材料及其在光化学领域中的应用 | 第13-17页 |
| 1.2.1 卤氧化铋的晶体结构 | 第13-14页 |
| 1.2.2 卤氧化铋材料的制备研究进展 | 第14-17页 |
| 1.2.3 本论文的研究动机 | 第17页 |
| 1.3 本论文章节安排 | 第17-19页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第19-24页 |
| 2.1 实验药品 | 第19-20页 |
| 2.2 材料制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 BiOX(X=Cl, Br, I)半导体化合物的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 有序介孔SiO_2分子筛的制备 | 第21页 |
| 2.3 材料表征 | 第21页 |
| 2.4 模型化合物的检测 | 第21页 |
| 2.5 界面吸附性能评价 | 第21-22页 |
| 2.5.1 吸附量的测定 | 第21-22页 |
| 2.5.2 吸附动力学曲线的绘制 | 第22页 |
| 2.5.3 等温吸附线的绘制 | 第22页 |
| 2.6 光化学反应活性评价 | 第22-23页 |
| 2.6.1 532nm脉冲激光激发下的光化学反应 | 第22-23页 |
| 2.6.2 氙灯光源激发下的光化学反应 | 第23页 |
| 2.7 分子的前线轨道能量计算 | 第23-24页 |
| 第三章 Bi OX (X=Cl, Br, I)化合物的制备、表征与光学性质 | 第24-32页 |
| 3.1 XRD和XPS分析 | 第24-25页 |
| 3.2 SEM与EDX研究 | 第25-26页 |
| 3.3 (HR)TE与SAED分析 | 第26-28页 |
| 3.4 光学吸收性质 | 第28-30页 |
| 3.5 形成机理探讨 | 第30-31页 |
| 3.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 Bi OX(X=Cl, Br)对Rh B的界面吸附特性 | 第32-37页 |
| 4.1 吸附动力学与热力学参数 | 第32-34页 |
| 4.2 等温吸附 | 第34-35页 |
| 4.3 吸附机理探讨 | 第35-36页 |
| 4.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 可见光下Bi OX(X=Cl, Br)对Rh B的光敏化分解特性 | 第37-49页 |
| 5.1 532 nm激光激发下Bi OBr对Rh B的光敏化分解特性 | 第37-41页 |
| 5.1.1 光化学反应动力学特征 | 第37-40页 |
| 5.1.2 催化剂用量以及激光能量对光敏化分解活性的影响 | 第40-41页 |
| 5.2 氙灯光源激发下Bi OCl与Bi OBr的光敏化分解特性 | 第41-47页 |
| 5.2.1 光化学反应动力学特征 | 第41-43页 |
| 5.2.2. 光化学中间产物的确定 | 第43-47页 |
| 5.2.3 反应机理探讨 | 第47页 |
| 5.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 第六章 模型分子种类与光敏化活性的“构-效”关系的初步研究 | 第49-54页 |
| 6.1 可见光激发下(λ>420 nm/λ=550±10 nm)Bi OX(X=Cl, Br)对Rh B的光降解活性 | 第49-52页 |
| 6.2 模型分子种类与光敏化活性的“构-效”关系 | 第52-53页 |
| 6.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 第七章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 7.1 结论 | 第54-55页 |
| 7.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 在学期间的研究成果以及发表的学术论文 | 第64页 |
