| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 金刚石的结构、性质及应用 | 第9-12页 |
| 1.1.1 金刚石的晶体结构 | 第9-10页 |
| 1.1.2 金刚石的性质及应用 | 第10-12页 |
| 1.2 人工制备金刚石的历史 | 第12-14页 |
| 1.3 CVD法制备金刚石的生长机理 | 第14-18页 |
| 1.3.1 碳的P-T相图及金刚石的亚稳态生长 | 第14-15页 |
| 1.3.2 CVD金刚石的生长条件及过程 | 第15-17页 |
| 1.3.3 影响CVD金刚石外延的主要因素 | 第17-18页 |
| 1.4 CVD金刚石的主要制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 热灯丝CVD法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 直流喷射CVD法 | 第19-20页 |
| 1.4.3 微波等离子体CVD法 | 第20页 |
| 1.5 论文选题及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验设备及表征技术 | 第22-27页 |
| 2.1 MPCVD设备及工艺 | 第22-23页 |
| 2.2 实验材料 | 第23-24页 |
| 2.3 单晶金刚石的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 光学显微镜 | 第24页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 2.3.3 拉曼光谱 | 第25页 |
| 2.3.4 光致发光光谱 | 第25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-27页 |
| 第3章 金刚石外延生长的条件及样品的表面形貌 | 第27-36页 |
| 3.1 金刚石外延生长的温度条件 | 第27-29页 |
| 3.2 金刚石外延生长的微波功率条件 | 第29-30页 |
| 3.3 金刚石的形貌及分析 | 第30-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 金刚石外延生长速率的影响因素 | 第36-46页 |
| 4.1 气体通量、气压对金刚石外延生长速率的影响 | 第36-40页 |
| 4.1.1 气体通量对金刚石外延生长速率的影响 | 第36-37页 |
| 4.1.2 气压对金刚石外延生长速率的影响 | 第37-40页 |
| 4.2 CH4/H2流量比对金刚石外延生长速率的影响 | 第40-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第5章 长时间外延生长大厚度金刚石单晶 | 第46-69页 |
| 5.1 连续长时间外延生长金刚石单晶 | 第46-58页 |
| 5.1.1 外延生长 11 h的金刚石样品的晶体质量和表面形貌分析 | 第46-50页 |
| 5.1.2 外延生长 24 h金刚石样品的表面形貌和晶体质量分析 | 第50-58页 |
| 5.2 非连续多次外延生长金刚石单晶 | 第58-67页 |
| 5.2.1 一般条件下非连续外延生长金刚石单晶 | 第58-61页 |
| 5.2.2 样品台改进后非连续外延生长金刚石单晶 | 第61-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
