多周期Bi2Te3/Sb2Te3异质纳米薄膜的制备及热电性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 热电薄膜的研究现状及发展趋势 | 第11-14页 |
| 1.3 纳米多层膜结构对热电性能的影响 | 第14-15页 |
| 1.4 热电薄膜的主要制备方法 | 第15-16页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 材料制备及表征方法 | 第18-26页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理及实验系统 | 第18-19页 |
| 2.1.2 衬底的选择 | 第19页 |
| 2.1.3 薄膜的沉积过程 | 第19-20页 |
| 2.2 纳米多层膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.3 退火处理 | 第22页 |
| 2.4 表征方法及原理 | 第22-25页 |
| 2.4.1 原子力显微镜（AFM）观察 | 第22页 |
| 2.4.2 透射电子显微镜（TEM）观察 | 第22-23页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜（SEM）观察 | 第23页 |
| 2.4.4 薄膜表面成分分析 | 第23页 |
| 2.4.5 薄膜的残余应力测试 | 第23-24页 |
| 2.4.6 薄膜霍尔系数和电导率的测量 | 第24页 |
| 2.4.7 薄膜热导率的测量 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 单层薄膜的结构特性 | 第26-40页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 Bi_2Te_3薄膜 | 第26-34页 |
| 3.2.1 溅射功率对表面形貌的影响 | 第26-29页 |
| 3.2.2 退火温度对表面形貌的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 溅射功率对薄膜组成的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.4 退火温度对薄膜组成的影响 | 第32页 |
| 3.2.5 退火温度对薄膜晶体结构的影响 | 第32-34页 |
| 3.3 Sb_2Te_3薄膜 | 第34-38页 |
| 3.3.1 溅射功率对表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.2 退火温度对表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 纳米多层薄膜的结构特性 | 第40-46页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 多层膜体系 | 第40-44页 |
| 4.2.1 表面形貌 | 第40-42页 |
| 4.2.2 界面结构研究 | 第42-43页 |
| 4.2.3 晶体结构 | 第43-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第5章 纳米薄膜的热电性能 | 第46-60页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 薄膜的电学性能表征 | 第46-54页 |
| 5.2.1 Bi_2Te_3薄膜 | 第47-51页 |
| 5.2.2 Sb_2Te_3薄膜 | 第51-53页 |
| 5.2.3 多周期薄膜的电性能 | 第53-54页 |
| 5.3 热学性能 | 第54-58页 |
| 5.3.1 薄膜厚度对热导率的影响 | 第55-57页 |
| 5.3.2 溅射功率对薄膜热导率的影响 | 第57页 |
| 5.3.3 多层膜结构对热导率的影响 | 第57-58页 |
| 5.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
