| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 自旋电子学与稀磁半导体 | 第8-10页 |
| 1.2 ZnO 基稀磁半导体材料 | 第10-15页 |
| 1.2.1 ZnO 简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 ZnO 基稀磁半导体研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3 稀磁半导体铁磁性起源的理论模型 | 第15-16页 |
| 1.4 选题依据及本论文的主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 样品的制备和表征 | 第18-25页 |
| 2.1 样品的制备 | 第18-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射(Magnetron Sputtering)原理 | 第18页 |
| 2.1.2 样品的制备过程 | 第18-20页 |
| 2.2 结构表征与物性测量 | 第20-25页 |
| 2.2.1 表面形貌测试仪(台阶仪) | 第20页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第20-21页 |
| 2.2.3 X 射线衍射仪(XRD) | 第21-22页 |
| 2.2.4 X 射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| 2.2.5 紫外-可见分光光度计 | 第22页 |
| 2.2.6 光致发光谱(PL) | 第22-23页 |
| 2.2.7 物理性能测试系统(PPMS) | 第23-24页 |
| 2.2.8 磁学测量系统(MPMS) | 第24-25页 |
| 第三章 K 掺杂 ZnO 薄膜的结构与特性研究 | 第25-43页 |
| 3.1 多晶 KZO 薄膜中的结构和性质 | 第25-32页 |
| 3.1.1 结构表征和表面形貌 | 第25-27页 |
| 3.1.2 多晶 KZO 薄膜的电学性质 | 第27页 |
| 3.1.3 多晶纯 ZnO 薄膜的磁学和光学性质 | 第27-29页 |
| 3.1.4 多晶 KZO 薄膜的磁学和光学性质 | 第29-32页 |
| 3.2 外延 KZO 薄膜的结构和性质 | 第32-41页 |
| 3.2.1 外延 KZO 薄膜的结构 | 第32-34页 |
| 3.2.2 外延 KZO 薄膜的 XPS 成分分析 | 第34-36页 |
| 3.2.3 外延 KZO 薄膜的电学性质 | 第36-37页 |
| 3.2.4 外延 KZO 薄膜的光学性质 | 第37-38页 |
| 3.2.5 外延 KZO 薄膜的磁学性质 | 第38-40页 |
| 3.2.6 KZO 的第一性原理计算 | 第40-41页 |
| 3.3 本章总结 | 第41-43页 |
| 第四章 Al-ZnO/KZO 双层膜性质研究 | 第43-48页 |
| 4.1 AZO/KZO 薄膜的结构和性质 | 第43-47页 |
| 4.1.1 AZO/KZO 薄膜的结构表征和表面形貌 | 第43-45页 |
| 4.1.2 AZO/KZO 双层薄膜的电学性质 | 第45页 |
| 4.1.3 AZO/KZO 双层薄膜的磁学性质 | 第45-47页 |
| 4.2 本章总结 | 第47-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-56页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
