| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·有机硅化合物的发展 | 第10-11页 |
| ·三乙氧基硅烷的合成方法 | 第11-13页 |
| ·硅氯仿醇解法 | 第12页 |
| ·HSi(NMe_2)_3 醇解法 | 第12-13页 |
| ·酯交换法 | 第13页 |
| ·直接法 | 第13页 |
| ·直接法合成三乙氧基硅烷的概述 | 第13-18页 |
| ·直接合成法的反应机理 | 第13-14页 |
| ·直接法催化剂的研究进展 | 第14-16页 |
| ·原料的选择 | 第16-17页 |
| ·触体的预处理及消泡 | 第17-18页 |
| ·三乙氧基硅烷的应用 | 第18-19页 |
| ·制备烯丙基三乙氧基硅烷 | 第18页 |
| ·制备γ-（2，3-环氧丙氧）丙基三乙氧基硅烷 | 第18-19页 |
| ·制备苯乙基三乙氧基硅烷 | 第19页 |
| ·制备五乙氧基二硅氧烷 | 第19页 |
| ·合成三乙氧基硅烷的反应器 | 第19-24页 |
| ·气—固反应器 | 第19-21页 |
| ·气—液—固反应器 | 第21-24页 |
| 第二章 催化剂的制备与表征 | 第24-37页 |
| ·前言 | 第24页 |
| ·实验仪器及药品 | 第24-25页 |
| ·实验所需仪器 | 第24-25页 |
| ·实验所需药品 | 第25页 |
| ·表征和测试方法 | 第25-28页 |
| ·氯化亚铜的制备与表征 | 第28-32页 |
| ·氯化亚铜的制备 | 第28-29页 |
| ·氯化亚铜的XRD 表征 | 第29-30页 |
| ·氯化亚铜的SEM 表征 | 第30-31页 |
| ·氯化亚铜的BET 和BJH 表征 | 第31-32页 |
| ·氧化亚铜的制备及表征 | 第32-34页 |
| ·氧化亚铜的制备 | 第32页 |
| ·氧化亚铜的XRD 表征 | 第32-33页 |
| ·氧化亚铜的SEM 表征 | 第33-34页 |
| ·纳米氧化铜的制备及表征 | 第34-37页 |
| ·纳米氧化铜的制备 | 第34-35页 |
| ·纳米氧化铜的XRD 表征 | 第35-36页 |
| ·纳米氧化铜的SEM 表征 | 第36-37页 |
| 第三章 CuCl 催化剂直接合成三乙氧基硅烷的研究 | 第37-46页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·实验方法 | 第37-38页 |
| ·实验装置 | 第37-38页 |
| ·工艺流程图 | 第38页 |
| ·实验步骤 | 第38-39页 |
| ·硅粉预处理 | 第38页 |
| ·三乙氧基硅烷的合成 | 第38页 |
| ·产物的气相色谱分析 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-45页 |
| ·反应温度的影响 | 第39-41页 |
| ·硅粉粒度的影响 | 第41页 |
| ·乙醇滴加速度的影响 | 第41-42页 |
| ·乙醇加入量的影响 | 第42-43页 |
| ·氯化亚铜用量的影响 | 第43-44页 |
| ·溶剂用量的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 纳米复合催化剂直接催化合成三乙氧基硅烷的研究 | 第46-53页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·实验方法 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·不同催化剂的影响 | 第46-47页 |
| ·复合催化剂中CuO 含量的影响 | 第47-48页 |
| ·复合催化剂中Cu_2O 含量的影响 | 第48页 |
| ·CuCl、Cu_2O 及CuO 含量的影响 | 第48-49页 |
| ·反应机理初探 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 三乙氧基硅烷的分离纯化 | 第53-58页 |
| ·分离方法简介 | 第53-55页 |
| ·普通精馏法 | 第53页 |
| ·混合精馏法 | 第53-54页 |
| ·萃取精馏 | 第54页 |
| ·反应精馏 | 第54-55页 |
| ·实验研究 | 第55页 |
| ·实验装置图 | 第55页 |
| ·产品混合物的制备 | 第55页 |
| ·分离纯化方法 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-57页 |
| ·简单精馏 | 第55-56页 |
| ·反应精馏 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第64-65页 |