| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-22页 |
| 1.1 辐射剂量学研究现状 | 第8-9页 |
| 1.2 多孔阳极氧化铝薄膜 | 第9-12页 |
| 1.2.1 多孔阳极氧化铝薄膜研究进展 | 第9-11页 |
| 1.2.2 多孔阳极氧化铝薄膜的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 离子掺杂 Al2O3薄膜 | 第12-20页 |
| 1.3.1 离子掺杂 Al2O3薄膜的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.3.2 离子掺杂 Al2O3薄膜材料分类 | 第13-14页 |
| 1.3.3 离子掺杂 Al2O3薄膜缺陷形成及发光机理 | 第14-17页 |
| 1.3.4 离子掺杂 A1203薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| 1.4 本论文立题依据、研究意义及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 A1203薄膜的制备工艺及其表征方法 | 第22-35页 |
| 2.1 实验原理 | 第22-24页 |
| 2.1.1 A1203薄膜多孔结构形成机制 | 第22-23页 |
| 2.1.2 A1203薄膜多孔结构形成过程 | 第23-24页 |
| 2.2 实验材料及制备工艺 | 第24-27页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.2.2 两步阳极氧化法制备 Al2O3薄膜工艺 | 第25-27页 |
| 2.3 基本表征方法介绍 | 第27-33页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.3.2 能量色散 X 射线光谱仪（EDX） | 第28页 |
| 2.3.3 X 射线衍射仪(XRD) | 第28-29页 |
| 2.3.4 热释发光（TL） | 第29-31页 |
| 2.3.5 辐射致发光（RL） | 第31-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 Al2O3:C 薄膜的发光特性研究 | 第35-46页 |
| 3.1 样品的制备 | 第35页 |
| 3.2 材料形貌与结构表征 | 第35-37页 |
| 3.2.1 Al2O3:C 的场发射扫描电子显微镜（FESEM）表征 | 第35-36页 |
| 3.2.2 Al2O3:C 的 EDS 成分分析 | 第36页 |
| 3.2.3 Al2O3:C 的 XRD 晶体结构分析 | 第36-37页 |
| 3.3 Al2O3:C 薄膜的 TL 特性研究 | 第37-41页 |
| 3.3.1 Al2O3:C 薄膜的 TL 曲线 | 第37-38页 |
| 3.3.2 基底处理对 Al2O3:C 薄膜 TL 光强度影响 | 第38页 |
| 3.3.3 退火时间处理对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.4 退火气氛对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.5 退火温度对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 退火温度对 Al2O3:C 的 RL 影响及 Al2O3:C 的 RL 剂量率响应 | 第41-44页 |
| 3.4.1 不同辐射类型对 Al2O3:C 薄膜的 RL 发光的影响 | 第41-42页 |
| 3.4.2 退火温度对 Al2O3:C 薄膜的辐射致发光（RL）的影响 | 第42-43页 |
| 3.4.3 Al2O3:C 薄膜 RL 的剂量率响应 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 工作总结与展望 | 第46-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 发表文章目录 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
