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Al2O3:C薄膜的热释光与辐射致发光特性研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
目录第6-8页
第一章 引言第8-22页
    1.1 辐射剂量学研究现状第8-9页
    1.2 多孔阳极氧化铝薄膜第9-12页
        1.2.1 多孔阳极氧化铝薄膜研究进展第9-11页
        1.2.2 多孔阳极氧化铝薄膜的应用第11-12页
    1.3 离子掺杂 Al2O3薄膜第12-20页
        1.3.1 离子掺杂 Al2O3薄膜的研究进展第12-13页
        1.3.2 离子掺杂 Al2O3薄膜材料分类第13-14页
        1.3.3 离子掺杂 Al2O3薄膜缺陷形成及发光机理第14-17页
        1.3.4 离子掺杂 A1203薄膜的制备方法第17-20页
    1.4 本论文立题依据、研究意义及主要研究内容第20-22页
第二章 A1203薄膜的制备工艺及其表征方法第22-35页
    2.1 实验原理第22-24页
        2.1.1 A1203薄膜多孔结构形成机制第22-23页
        2.1.2 A1203薄膜多孔结构形成过程第23-24页
    2.2 实验材料及制备工艺第24-27页
        2.2.1 实验材料第24-25页
        2.2.2 两步阳极氧化法制备 Al2O3薄膜工艺第25-27页
    2.3 基本表征方法介绍第27-33页
        2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)第27-28页
        2.3.2 能量色散 X 射线光谱仪(EDX)第28页
        2.3.3 X 射线衍射仪(XRD)第28-29页
        2.3.4 热释发光(TL)第29-31页
        2.3.5 辐射致发光(RL)第31-33页
    2.4 本章小结第33-35页
第三章 Al2O3:C 薄膜的发光特性研究第35-46页
    3.1 样品的制备第35页
    3.2 材料形貌与结构表征第35-37页
        3.2.1 Al2O3:C 的场发射扫描电子显微镜(FESEM)表征第35-36页
        3.2.2 Al2O3:C 的 EDS 成分分析第36页
        3.2.3 Al2O3:C 的 XRD 晶体结构分析第36-37页
    3.3 Al2O3:C 薄膜的 TL 特性研究第37-41页
        3.3.1 Al2O3:C 薄膜的 TL 曲线第37-38页
        3.3.2 基底处理对 Al2O3:C 薄膜 TL 光强度影响第38页
        3.3.3 退火时间处理对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响第38-39页
        3.3.4 退火气氛对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响第39-40页
        3.3.5 退火温度对 Al2O3:C 薄膜 TL 发光的影响第40-41页
    3.4 退火温度对 Al2O3:C 的 RL 影响及 Al2O3:C 的 RL 剂量率响应第41-44页
        3.4.1 不同辐射类型对 Al2O3:C 薄膜的 RL 发光的影响第41-42页
        3.4.2 退火温度对 Al2O3:C 薄膜的辐射致发光(RL)的影响第42-43页
        3.4.3 Al2O3:C 薄膜 RL 的剂量率响应第43-44页
    3.5 本章小结第44-46页
第四章 工作总结与展望第46-49页
参考文献第49-53页
发表文章目录第53-54页
致谢第54页

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