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撞击流反应—沉淀法制备钇稳定氧化锆超细粉体

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 文献综述第14-28页
    1.1 二氧化锆的性质第14页
    1.2 二氧化锆的应用第14-16页
        1.2.1 应用于结构陶瓷中第15页
        1.2.2 应用于功能陶瓷和电子中第15-16页
        1.2.3 应用于耐火材料中第16页
        1.2.4 应用于玻璃中第16页
        1.2.5 应用于其它方面第16页
    1.3 二氧化锆的晶型结构第16-18页
    1.4 二氧化锆的稳定化第18-19页
    1.5 钇稳定氧化锆超细粉体的制备方法第19-24页
        1.5.1 化学沉淀法第20-21页
        1.5.2 固相法第21-22页
        1.5.3 醇-水溶液法第22页
        1.5.4 溶胶-凝胶法第22页
        1.5.5 水热法第22-23页
        1.5.6 微乳液法第23页
        1.5.7 电熔法第23-24页
    1.6 撞击流反应技术制备超细粉体第24-25页
    1.7 选题背景及研究内容第25-28页
        1.7.1 选题背景及意义第25-26页
        1.7.2 研究内容和创新点第26-28页
第2章 实验部分第28-36页
    2.1 实验试剂与仪器第28-29页
        2.1.1 实验试剂第28页
        2.1.2 实验仪器与设备第28-29页
    2.2 实验工艺流程及操作步骤第29-31页
        2.2.1 实验工艺流程图第29-31页
        2.2.2 实验步骤第31页
    2.3 实验产品的表征第31-36页
        2.3.1 WJL激光粒度仪第32-33页
        2.3.2 X-射线衍射法第33页
        2.3.3 扫描电子显微镜第33页
        2.3.4 热分析仪第33-36页
第3章 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺研究第36-48页
    3.1 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺的正交实验第36-39页
    3.2 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺的单因素试验第39-46页
        3.2.1 PEG4000用量对钇稳定氧化锆粒径的影响第39-40页
        3.2.2 螺旋桨转速对氧化锆粒径的影响第40-41页
        3.2.3 锆离子浓度对钇稳定氧化锆粒径的影响第41-42页
        3.2.4 反应时间对钇稳定氧化锆粒径的影响第42页
        3.2.5 焙烧温度对钇氧化锆粒径的影响第42-44页
        3.2.6 焙烧时间对氧化锆粒径的影响第44页
        3.2.7 优化条件下产品的WJL激光粒度仪和扫描电镜分析第44-46页
    本章小结第46-48页
第4章 前驱体的焙烧动力学研究第48-64页
    4.1 热分解机理第49-52页
        4.1.1 Kissinger法第51页
        4.1.2 Flynn-Wall-Ozawa(FWO)法第51-52页
        4.1.3 Kissinger-Aksahira-Sunose(KAS)法第52页
    4.2 热分解过程分析第52-54页
    4.3 活化能的求取第54-61页
        4.3.1 第一阶段活化能的求取第54-57页
        4.3.2 第二阶段活化能的求取第57-59页
        4.3.3 第三阶段活化能的求取第59-61页
    本章小结第61-64页
第5章 结论第64-66页
参考文献第66-78页
攻读硕士期间发表论文第78-80页
致谢第80页

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