摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 文献综述 | 第14-28页 |
1.1 二氧化锆的性质 | 第14页 |
1.2 二氧化锆的应用 | 第14-16页 |
1.2.1 应用于结构陶瓷中 | 第15页 |
1.2.2 应用于功能陶瓷和电子中 | 第15-16页 |
1.2.3 应用于耐火材料中 | 第16页 |
1.2.4 应用于玻璃中 | 第16页 |
1.2.5 应用于其它方面 | 第16页 |
1.3 二氧化锆的晶型结构 | 第16-18页 |
1.4 二氧化锆的稳定化 | 第18-19页 |
1.5 钇稳定氧化锆超细粉体的制备方法 | 第19-24页 |
1.5.1 化学沉淀法 | 第20-21页 |
1.5.2 固相法 | 第21-22页 |
1.5.3 醇-水溶液法 | 第22页 |
1.5.4 溶胶-凝胶法 | 第22页 |
1.5.5 水热法 | 第22-23页 |
1.5.6 微乳液法 | 第23页 |
1.5.7 电熔法 | 第23-24页 |
1.6 撞击流反应技术制备超细粉体 | 第24-25页 |
1.7 选题背景及研究内容 | 第25-28页 |
1.7.1 选题背景及意义 | 第25-26页 |
1.7.2 研究内容和创新点 | 第26-28页 |
第2章 实验部分 | 第28-36页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第28-29页 |
2.1.1 实验试剂 | 第28页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第28-29页 |
2.2 实验工艺流程及操作步骤 | 第29-31页 |
2.2.1 实验工艺流程图 | 第29-31页 |
2.2.2 实验步骤 | 第31页 |
2.3 实验产品的表征 | 第31-36页 |
2.3.1 WJL激光粒度仪 | 第32-33页 |
2.3.2 X-射线衍射法 | 第33页 |
2.3.3 扫描电子显微镜 | 第33页 |
2.3.4 热分析仪 | 第33-36页 |
第3章 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺研究 | 第36-48页 |
3.1 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺的正交实验 | 第36-39页 |
3.2 钇稳定氧化锆超细粉体制备工艺的单因素试验 | 第39-46页 |
3.2.1 PEG4000用量对钇稳定氧化锆粒径的影响 | 第39-40页 |
3.2.2 螺旋桨转速对氧化锆粒径的影响 | 第40-41页 |
3.2.3 锆离子浓度对钇稳定氧化锆粒径的影响 | 第41-42页 |
3.2.4 反应时间对钇稳定氧化锆粒径的影响 | 第42页 |
3.2.5 焙烧温度对钇氧化锆粒径的影响 | 第42-44页 |
3.2.6 焙烧时间对氧化锆粒径的影响 | 第44页 |
3.2.7 优化条件下产品的WJL激光粒度仪和扫描电镜分析 | 第44-46页 |
本章小结 | 第46-48页 |
第4章 前驱体的焙烧动力学研究 | 第48-64页 |
4.1 热分解机理 | 第49-52页 |
4.1.1 Kissinger法 | 第51页 |
4.1.2 Flynn-Wall-Ozawa(FWO)法 | 第51-52页 |
4.1.3 Kissinger-Aksahira-Sunose(KAS)法 | 第52页 |
4.2 热分解过程分析 | 第52-54页 |
4.3 活化能的求取 | 第54-61页 |
4.3.1 第一阶段活化能的求取 | 第54-57页 |
4.3.2 第二阶段活化能的求取 | 第57-59页 |
4.3.3 第三阶段活化能的求取 | 第59-61页 |
本章小结 | 第61-64页 |
第5章 结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-78页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第78-80页 |
致谢 | 第80页 |