| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-30页 |
| 1.1 半导体光催化技术概述 | 第8-15页 |
| 1.1.1 光催化概述 | 第8-9页 |
| 1.1.2 光催化材料 | 第9-10页 |
| 1.1.3 光催化反应影响因素 | 第10-13页 |
| 1.1.4 光催化的应用 | 第13-15页 |
| 1.2 g-C_3N_4 | 第15-28页 |
| 1.2.1 g-C_3N_4光催化材料的制备 | 第16-17页 |
| 1.2.2 g-C_3N_4光催化性能的提高方法 | 第17-28页 |
| 1.3 本课题的研究意义和研究内容 | 第28-30页 |
| 1.3.1 本课题的研究意义 | 第28-29页 |
| 1.3.2 本课题的研究内容 | 第29-30页 |
| 2 超薄C_3N_4的制备及其光催化性能研究 | 第30-46页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第31页 |
| 2.2.2 系列样品的制备 | 第31-32页 |
| 2.2.3 系列样品的物理表征方法 | 第32页 |
| 2.2.4 系列样品的光解水产氢和光催化染料降解测试 | 第32页 |
| 2.2.5 系列样品光电极的制备以及光电化学性能的测定 | 第32-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 3 C修饰C_3N_4纳米片复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第46-62页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验部分 | 第47-50页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第47-48页 |
| 3.2.2 系列样品的制备 | 第48-49页 |
| 3.2.3 系列样品的物理表征方法 | 第49页 |
| 3.2.4 系列样品的光解水产氢和光催化染料降解测试 | 第49-50页 |
| 3.2.5 系列样品光电极的制备以及光电化学性能的测定 | 第50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 4 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第72-73页 |
