| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第16-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第16页 |
| 1.2 氧化物介电层 | 第16-20页 |
| 1.2.1 高k介电材料分类 | 第17-18页 |
| 1.2.2 介电层材料的要求 | 第18-19页 |
| 1.2.3 几种常见高k介电层材料 | 第19-20页 |
| 1.3 低温溶液法制备氧化物介电层 | 第20-28页 |
| 1.3.1 等离子氧处理 | 第21-22页 |
| 1.3.2 高压退火处理 | 第22-23页 |
| 1.3.3 水溶液法 | 第23-24页 |
| 1.3.4 溶液燃烧法 | 第24-26页 |
| 1.3.5 紫外光照处理 | 第26-28页 |
| 1.4 课题的提出与意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-40页 |
| 2.1 实验材料及仪器设备 | 第30-32页 |
| 2.2 ZrO_2薄膜和TFT器件工艺流程 | 第32-37页 |
| 2.2.1 ZrO_2薄膜制备工艺 | 第32-36页 |
| 2.2.2 TFT器件制备工艺 | 第36-37页 |
| 2.3 表征方法 | 第37-39页 |
| 2.3.1 前驱体溶液的表征 | 第37页 |
| 2.3.2 ZrO_2薄膜的表征 | 第37-38页 |
| 2.3.3 TFT器件的表征 | 第38-39页 |
| 2.4 小结 | 第39-40页 |
| 第三章 低温紫外光照制备ZrO_2薄膜及其TFTs应用 | 第40-54页 |
| 3.1 ZrAcAc前驱体溶液热分析 | 第40-41页 |
| 3.2 ZrO_2薄膜的结构和性能 | 第41-50页 |
| 3.2.1 ZrO_2薄膜的物相分析 | 第41页 |
| 3.2.2 ZrO_2薄膜的光学性能分析 | 第41-42页 |
| 3.2.3 ZrO_2薄膜的表面形貌分析 | 第42-46页 |
| 3.2.4 ZrO_2薄膜的X射线光电子能谱分析 | 第46-48页 |
| 3.2.5 ZrO_2薄膜的电学性能分析 | 第48-50页 |
| 3.3 紫外光照处理机制分析 | 第50-51页 |
| 3.4 ZrO_2薄膜在TFT中的应用 | 第51-53页 |
| 3.5 小结 | 第53-54页 |
| 第四章 低温光波处理制备ZrO_2薄膜及其TFTs应用 | 第54-68页 |
| 4.1 ZrOCl_2前驱体溶液热分析 | 第54-55页 |
| 4.2 ZrO_2薄膜的结构和性能 | 第55-63页 |
| 4.2.1. ZrO_2薄膜的物相分析 | 第55页 |
| 4.2.2. ZrO_2薄膜的光学性能分析 | 第55-56页 |
| 4.2.3 ZrO_2薄膜的表面形貌分析 | 第56-59页 |
| 4.2.4 ZrO_2薄膜的X射线光电子能谱分析 | 第59-61页 |
| 4.2.5 ZrO_2薄膜的电学性能分析 | 第61-63页 |
| 4.3 ZrO_2薄膜在TFT中的应用 | 第63-66页 |
| 4.4 小结 | 第66-68页 |
| 第五章 低温光波处理快速制备ZrO_2薄膜及其TFTs应用 | 第68-80页 |
| 5.1 ZrO(NO_3)_2前驱体溶液热分析 | 第68-69页 |
| 5.2 ZrO_2薄膜的结构和性能 | 第69-78页 |
| 5.2.1 ZrO_2薄膜的物相分析 | 第69-70页 |
| 5.2.2 ZrO_2薄膜的光学性能分析 | 第70页 |
| 5.2.3 ZrO_2薄膜的表面形貌分析 | 第70-74页 |
| 5.2.4 ZrO_2薄膜的X射线光电子能谱分析 | 第74-75页 |
| 5.2.5 ZrO_2薄膜的电学性能分析 | 第75-78页 |
| 5.3 ZrO_2薄膜在TFT中的应用 | 第78-79页 |
| 5.4 小结 | 第79-80页 |
| 第六章 结论与展望 | 第80-82页 |
| 6.1 结论 | 第80页 |
| 6.2 创新点 | 第80-81页 |
| 6.3 展望 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 致谢 | 第90-92页 |
| 附录: 攻读硕士期间发表的论文 | 第92-93页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第93页 |
