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非平衡磁控溅射TiAIN薄膜的组织结构与性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第1章 绪论第10-26页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 表面工程技术第11-13页
        1.2.1 表面工程技术的定义及分类第11-12页
        1.2.2 表面工程技术的意义第12页
        1.2.3 表面工程技术的发展趋势第12-13页
    1.3 薄膜技术概述第13-19页
        1.3.1 薄膜的种类及应用第13-14页
        1.3.2 薄膜的生长过程第14-16页
        1.3.3 薄膜的制备方法第16-19页
    1.4 磁控溅射技术简介第19-21页
    1.5 硬质薄膜的发展第21-23页
        1.5.1 二元硬质薄膜第21-22页
        1.5.2 多元复合硬质薄膜第22-23页
        1.5.3 多层硬质薄膜第23页
    1.6 TiAlN硬质薄膜的研究进展第23-24页
    1.7 本论文的研究目的和内容第24-26页
第2章 实验设备与测试方法第26-34页
    2.1 磁控溅射设备第26-27页
    2.2 实验基体及预处理第27-29页
    2.3 薄膜的成分、结构和形貌表征第29-31页
        2.3.1 薄膜的成分测试第29页
        2.3.2 薄膜的相结构测试第29-30页
        2.3.3 薄膜的形貌测试第30-31页
    2.4 薄膜的力学性能表征第31-32页
        2.4.1 薄膜的显微硬度测试第31页
        2.4.2 薄膜的结合力测试第31-32页
    2.5 薄膜的摩擦性能表征第32-33页
    2.6 本章小结第33-34页
第3章 TiAlN薄膜的制备及分析第34-50页
    3.1 引言第34页
    3.2 TiAlN硬质薄膜的制备第34-37页
        3.2.1 薄膜膜层的设计第34-35页
        3.2.2 TiAlN薄膜的制备工艺第35-37页
    3.3 薄膜的形貌及成分结构分析第37-41页
        3.3.1 TiAlN薄膜的表面与截面形貌第37-39页
        3.3.2 TiAlN薄膜的成分分析第39-40页
        3.3.3 TiAlN薄膜的相结构分析第40-41页
    3.4 TiAlN薄膜的力学性能第41-46页
        3.4.1 TiAlN薄膜的显微硬度测试第41-44页
        3.4.2 TiAlN薄膜的膜/基结合力分析第44-46页
    3.5 TiAlN薄膜的摩擦性能分析第46-48页
        3.5.1 材料的摩擦第46页
        3.5.2 试验结果与分析第46-48页
    3.6 本章小结第48-50页
第4章 TiAlN薄膜的抗氧化性能研究第50-57页
    4.1 引言第50页
    4.2 试验方法第50-51页
    4.3 氧化温度对薄膜相结构的影响第51-53页
    4.4 氧化温度对薄膜表面形貌的影响第53-54页
    4.5 氧化温度对薄膜硬度的影响第54-55页
    4.6 氧化温度对薄膜摩擦系数的影响第55-56页
    4.7 本章小结第56-57页
第5章 TiAlN薄膜的耐腐蚀性能研究第57-68页
    5.1 引言第57页
    5.2 电化学腐蚀试验第57-64页
        5.2.1 电化学原理简介第57-59页
        5.2.2 试验装置及内容第59-61页
        5.2.3 试验结果与分析第61-64页
    5.3 浸泡腐蚀试验第64-66页
    5.4 本章小结第66-68页
第6章 结论与展望第68-70页
    6.1 结论第68-69页
    6.2 展望第69-70页
参考文献第70-74页
致谢第74-75页
攻读学位期间参加的科研项目和成果第75页

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