原子气室的抗弛豫镀膜研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 原子气室 | 第9-10页 |
| 1.2 抗弛豫常用方法 | 第10-13页 |
| 第2章 原子极化的基础理论 | 第13-23页 |
| 2.1 碱金属原子 | 第13-15页 |
| 2.2 磁场中的原子自旋 | 第15-17页 |
| 2.3 光泵过程 | 第17-21页 |
| 2.4 光吸收线宽 | 第21-23页 |
| 第3章 原子自旋弛豫 | 第23-31页 |
| 3.1 弛豫研究回顾 | 第23-26页 |
| 3.2 弛豫机制 | 第26-31页 |
| 3.2.1 器壁碰撞 | 第27-28页 |
| 3.2.2 自旋交换碰撞 | 第28-29页 |
| 3.2.3 自旋破坏碰撞 | 第29页 |
| 3.2.4 磁场梯度 | 第29-30页 |
| 3.2.5 “蓄水池”效应 | 第30-31页 |
| 第4章 抗弛豫方案设计 | 第31-48页 |
| 4.1 抗弛豫方法分析 | 第31-33页 |
| 4.2 十八烷基三氯硅烷 | 第33页 |
| 4.3 镀膜理论 | 第33-35页 |
| 4.4 制作过程 | 第35-40页 |
| 4.5 OTS膜的特点 | 第40-42页 |
| 4.6 抗弛豫效果测量 | 第42-48页 |
| 4.6.1 暗中弛豫法 | 第42页 |
| 4.6.2 测量实验 | 第42-45页 |
| 4.6.3 实验数据处理 | 第45-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
