| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-32页 |
| 第一节 研究背景 | 第13-14页 |
| 第二节 二氧化钌的研究 | 第14-17页 |
| 1.2.1 氧化钌的结构及性质 | 第14-16页 |
| 1.2.2 二氧化钌薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| 第三节 二氧化钒的研究 | 第17-30页 |
| 1.3.1 二氧化钒的晶体结构和能带结构 | 第18-20页 |
| 1.3.2 二氧化钒薄膜的物性 | 第20-23页 |
| 1.3.3 二氧化钒的相变机理 | 第23-25页 |
| 1.3.4 VO_2的薄膜研究现状 | 第25-30页 |
| 1.3.4.1 二氧化钒薄膜的制备技术 | 第26-28页 |
| 1.3.4.2 VO_2薄膜的应用前景 | 第28-30页 |
| 第四节 本论文的研究动机和研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第32-43页 |
| 第一节 脉冲激光沉积技术 | 第32-38页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积的原理 | 第33-35页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积的优缺点 | 第35-36页 |
| 2.1.3 实验室用激光脉冲沉积设备简介 | 第36-38页 |
| 第二节 薄膜的测试方法 | 第38-43页 |
| 2.2.1 反射式高能电子衍射 | 第38-39页 |
| 2.2.2 X射线衍射 | 第39-40页 |
| 2.2.3 四针法测电阻 | 第40-41页 |
| 2.2.4 拉曼光谱测量 | 第41-42页 |
| 2.2.5 其他的一些测量 | 第42-43页 |
| 第三章 二氧化钌薄膜的外延生长及物性研究 | 第43-53页 |
| 第一节 引言 | 第43-44页 |
| 第二节 样品制备 | 第44-45页 |
| 第三节 实验结果及讨论 | 第45-52页 |
| 3.3.1 RuO_2的晶体结构及形貌特征 | 第45-50页 |
| 3.3.2 RuO_2的电输运性质 | 第50-52页 |
| 第四节 章节总结 | 第52-53页 |
| 第四章 ：二氧化钒薄膜的外延生长及研究 | 第53-68页 |
| 第一节 前言 | 第53-54页 |
| 第二节 样品的制备 | 第54-55页 |
| 第三节 实验结果及分析 | 第55-67页 |
| 4.3.1 在MgF_2(001)衬底上外延生长VO_2薄膜的研究 | 第55-61页 |
| 4.3.2 在MgF_2(110)衬底上外延生长VO_2薄膜的研究 | 第61-64页 |
| 4.3.3 在Al_2O_3(1-102)衬底上生长VO_2薄膜的研究 | 第64-67页 |
| 第四节 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 ：VO_2/RuO_2双层薄膜的制备及研究 | 第68-74页 |
| 第一节 前言 | 第68-69页 |
| 第二节 样品制备 | 第69页 |
| 第三节 实验结果及分析 | 第69-73页 |
| 5.3.1 VO_2/RuO_2/MgF_2(110)结构的研究 | 第69-71页 |
| 5.3.2 VO_2/RuO_2/Al_2O_3(1-102)结构的研究 | 第71-73页 |
| 第三节 本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 总结与展望 | 第74-77页 |
| 第一节 本论文主要内容及结论 | 第74-75页 |
| 第二节 论文的创新点及工作展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第83页 |
| 参加的学术会议 | 第83-84页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第84页 |
