用于三维成像激光雷达的MEMS扫描镜研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 MEMS工艺 | 第12-19页 |
| 1.2.1 MEMS工艺的主要步骤 | 第12-16页 |
| 1.2.2 典型的MEMS加工工艺 | 第16-19页 |
| 1.3 MEMS扫描镜的国内外研究现状 | 第19-24页 |
| 1.4 本文主要研究内容和结构安排 | 第24-25页 |
| 1.4.1 本文主要研究内容 | 第24页 |
| 1.4.2 本文结构安排 | 第24-25页 |
| 第二章 静电驱动MEMS扫描镜理论基础 | 第25-35页 |
| 2.1 MEMS静电驱动器 | 第25-28页 |
| 2.1.1 平行板驱动器 | 第25-27页 |
| 2.1.2 残余应力自组装 | 第27-28页 |
| 2.2 MEMS扫描镜镜面 | 第28-31页 |
| 2.2.1 残余应力对镜面的影响 | 第28-29页 |
| 2.2.2 镜面结构模型 | 第29-30页 |
| 2.2.3 镜面面型控制 | 第30-31页 |
| 2.3 MEMS扫描镜关键参数 | 第31-34页 |
| 2.3.1 最大扫描角 | 第31-32页 |
| 2.3.2 镜面尺寸 | 第32-33页 |
| 2.3.3 扫描频率 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 MEMS扫描镜研究 | 第35-47页 |
| 3.1 工作原理 | 第35-38页 |
| 3.1.1 热退火工艺 | 第35-36页 |
| 3.1.2 应力测试 | 第36-38页 |
| 3.2 结构设计 | 第38-40页 |
| 3.3 工艺加工 | 第40-43页 |
| 3.4 性能测试与分析 | 第43-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 MEMS扫描镜阵列研究 | 第47-58页 |
| 4.1 结构设计 | 第47-51页 |
| 4.2 工艺加工 | 第51-54页 |
| 4.2.1 表面工艺加工 | 第51-52页 |
| 4.2.2 体硅工艺加工 | 第52-54页 |
| 4.3 性能测试与分析 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 全文工作总结 | 第58-59页 |
| 5.2 创新点 | 第59页 |
| 5.3 后续工作展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第65-66页 |
