| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 选题依据与研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 透氢膜研究现状 | 第10-16页 |
| 1.2.1 钯膜透氢机理 | 第10-12页 |
| 1.2.2 合金膜 | 第12-13页 |
| 1.2.3 复合膜 | 第13-15页 |
| 1.2.4 钯-V族金属复合膜 | 第15-16页 |
| 1.3 钯复合膜制备技术 | 第16-19页 |
| 1.3.1 化学镀 | 第17-18页 |
| 1.3.2 物理气相沉积法 | 第18-19页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第19页 |
| 1.3.4 光催化法 | 第19页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验材料、设备及分析方法 | 第21-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 实验装置 | 第21-24页 |
| 2.2.1 磁控溅射沉积设备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 复合膜渗透实验装置 | 第22-24页 |
| 2.3 分析表征及测试方法 | 第24-28页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
| 2.3.2 X-射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.3.3 俄歇电子能谱仪(AES) | 第25页 |
| 2.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第25-26页 |
| 2.3.5 纳米划痕实验 | 第26-28页 |
| 第三章 复合膜制备及工艺优化 | 第28-33页 |
| 3.1 前言 | 第28页 |
| 3.2 实验部分 | 第28-29页 |
| 3.2.1 基体预处理 | 第28-29页 |
| 3.2.2 钯铌复合膜制备工艺 | 第29页 |
| 3.3 表征与分析 | 第29-32页 |
| 3.3.1 钯铌复合膜表面形貌 | 第29-31页 |
| 3.3.2 沉积气压对钯铌复合膜形貌影响 | 第31页 |
| 3.3.3 沉积偏压对钯铌复合膜形貌影响 | 第31-32页 |
| 3.4 小结 | 第32-33页 |
| 第四章 基体表面处理对膜基结合力和氘渗透行为影响 | 第33-44页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 实验部分 | 第33-34页 |
| 4.2.1 基体表面预处理 | 第33页 |
| 4.2.2 铌钯复合膜制备工艺 | 第33-34页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第34-43页 |
| 4.3.1 基体表面预处理对复合膜形貌和结构的影响 | 第34-37页 |
| 4.3.2 基体表面预处理对复合膜膜基结合力的影响 | 第37-39页 |
| 4.3.3 氘渗透性能研究 | 第39-43页 |
| 4.4 小结 | 第43-44页 |
| 第五章 脱气热处理对膜氘渗透行为的影响 | 第44-53页 |
| 5.1 引言 | 第44页 |
| 5.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 5.2.1 钯铌复合膜制备工艺 | 第44-45页 |
| 5.2.2 复合膜氘渗透实验 | 第45页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第45-52页 |
| 5.3.1 钯铌复合膜形貌及结构表征 | 第45-47页 |
| 5.3.2 氘渗透研究 | 第47-49页 |
| 5.3.3 氘渗透后钯铌复合膜形貌及界面表征 | 第49-52页 |
| 5.4 小结 | 第52-53页 |
| 第六章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 6.1 结论 | 第53-54页 |
| 6.2 展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 附录 | 第62页 |