| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 引言 | 第7-8页 |
| 1 氧化镍综述 | 第8-15页 |
| 1.1 氧化镍的基本性质 | 第8-9页 |
| 1.1.1 氧化镍的晶体结构 | 第8-9页 |
| 1.1.2 氧化镍的光电性质 | 第9页 |
| 1.1.3 氧化镍的电致变色 | 第9页 |
| 1.1.4 氧化镍的气敏性质 | 第9页 |
| 1.2 氧化镍薄膜的应用 | 第9-15页 |
| 1.2.1 阻变存储器（RRAM） | 第9-12页 |
| 1.2.2 氧化镍薄膜的电致变色 | 第12-14页 |
| 1.2.3 超级电容器 | 第14页 |
| 1.2.4 太阳能电池 | 第14-15页 |
| 2 薄膜制备及分析方法 | 第15-23页 |
| 2.1 样品的制备方法 | 第15-17页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射法 | 第15-17页 |
| 2.2 薄膜的分析方法 | 第17-23页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第17-18页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第18-19页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜（TEM） | 第20-21页 |
| 2.2.5 透射光谱 | 第21页 |
| 2.2.6 X射线光电子谱仪 | 第21-22页 |
| 2.2.7 方块电阻测量仪 | 第22-23页 |
| 3 氧化镍薄膜的制备及表征 | 第23-41页 |
| 3.1 沉积气压对氧化镍薄膜结构和性能的影响 | 第23-29页 |
| 3.1.1 氧化镍薄膜的结构、形貌随沉积气压的变化 | 第23-27页 |
| 3.1.2 氧化镍薄膜光学和电学性质随沉积气压的变化 | 第27-29页 |
| 3.2 生长温度对氧化镍薄膜结构和性能的影响 | 第29-34页 |
| 3.2.1 氧化镍薄膜的结构和形貌随生长温度的变化 | 第29-32页 |
| 3.2.2 氧化镍薄膜光学和电学性质随生长温度的变化 | 第32-34页 |
| 3.3 氧化镍单晶薄膜的生长 | 第34-38页 |
| 3.4 金属-氧化镍异质结的电学性质 | 第38-40页 |
| 3.4.1 金属锇-氧化镍薄膜异质结的微观电学性质 | 第38-39页 |
| 3.4.2 金属Os-氧化镍-银异质结的电学特性 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 氧化镍沉积对金属银膜的反常氧化 | 第41-51页 |
| 4.1 实验方法 | 第41页 |
| 4.2 反应溅射沉积氧化镍对金属银膜的氧化行为 | 第41-46页 |
| 4.2.1 氧化镍沉积时间对金属银膜氧化的影响 | 第41-44页 |
| 4.2.2 NiO沉积在Ag膜反常氧化中的作用 | 第44-46页 |
| 4.3 银膜反常氧化的光催化性质 | 第46-50页 |
| 4.3.1 反常氧化的Ag膜的光学性质 | 第46-47页 |
| 4.3.2 反常氧化的Ag膜的光催化性质 | 第47-49页 |
| 4.3.3 氧化银光催化降解MB的物理机制 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
