| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-12页 |
| 1.2 有机氢硅烷制备的研究进展 | 第12-19页 |
| 1.2.1 直接法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 高沸物裂解法 | 第13页 |
| 1.2.3 再分配法 | 第13页 |
| 1.2.4 格氏反应法 | 第13-14页 |
| 1.2.5 还原法 | 第14-19页 |
| 1.3 本课题提出的意义及主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 LiH/球磨还原体系制备有机氢硅烷 | 第21-31页 |
| 2.1 实验部分 | 第21-24页 |
| 2.1.1 实验原料及仪器设备 | 第21-22页 |
| 2.1.2 实验过程 | 第22-24页 |
| 2.2 实验结果与讨论 | 第24-30页 |
| 2.2.1 ClCH_2SiCl_3的还原结果与表征 | 第24-25页 |
| 2.2.2 ClCH_2SiMeCl_2的还原结果与表征 | 第25-26页 |
| 2.2.3 ClPrSiMeCl_2的还原结果与表征 | 第26-28页 |
| 2.2.4 Ph_2SiCl_2的还原结果与表征 | 第28-29页 |
| 2.2.5 实验结果的讨论 | 第29-30页 |
| 2.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 NaH还原体系制备有机氢硅烷 | 第31-41页 |
| 3.1 实验部分 | 第31-34页 |
| 3.1.1 实验原料及仪器设备 | 第31-32页 |
| 3.1.2 实验过程 | 第32-34页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第34-40页 |
| 3.2.1 CH_3SiHCl_2的还原结果与表征 | 第34-36页 |
| 3.2.2 ClCH_2SiMeCl_2的还原结果与表征 | 第36页 |
| 3.2.3 ClPrSiMeCl_2的还原结果与表征 | 第36-37页 |
| 3.2.4 Ph_2SiCl_2的还原结果与表征 | 第37-39页 |
| 3.2.5 实验结果的讨论 | 第39-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 CaH_2还原体系制备有机氢硅烷 | 第41-52页 |
| 4.1 实验部分 | 第41-44页 |
| 4.1.1 实验原料及仪器设备 | 第41-42页 |
| 4.1.2 实验过程 | 第42-44页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第44-50页 |
| 4.2.1 ClPrSiMeCl_2的还原结果与表征 | 第44-46页 |
| 4.2.2 Ph_2SiCl_2的还原结果与表征 | 第46-47页 |
| 4.2.3 CH_3SiHCl_2的还原结果与表征 | 第47-48页 |
| 4.2.4 ClCH_2SiMeCl_2的还原结果与表征 | 第48-50页 |
| 4.2.5 实验结果的讨论 | 第50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
