| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-40页 |
| 1.1 磺胺类药物的介绍和检测方法 | 第13-19页 |
| 1.1.1 磺胺类药物的介绍 | 第13-15页 |
| 1.1.2 磺胺类药物的检测方法 | 第15-19页 |
| 1.2 分子印迹技术 | 第19-30页 |
| 1.2.1 分子印迹技术介绍 | 第19-21页 |
| 1.2.2 分子印迹聚合物的合成方法 | 第21-28页 |
| 1.2.3 分子印迹技术应用于化学传感器 | 第28-30页 |
| 1.3 量子点 | 第30-38页 |
| 1.3.1 量子点的介绍 | 第30-31页 |
| 1.3.2 量子点的合成方法 | 第31-34页 |
| 1.3.3 量子点结合分子印迹技术应用于分析领域 | 第34-36页 |
| 1.3.4 以量子点为载体基质合成分子印迹聚合物纳米粒子 | 第36-38页 |
| 1.4 论文研究目的和内容 | 第38-40页 |
| 1.4.1 论文研究目的 | 第38-39页 |
| 1.4.2 论文研究内容 | 第39-40页 |
| 第二章 基于二氧化硅包裹碲化镉量子点磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备及研究 | 第40-57页 |
| 2.1 引言 | 第40-42页 |
| 2.2.实验 | 第42-45页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第42页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第42-43页 |
| 2.2.3 基于二氧化硅包裹碲化镉量子点磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备 | 第43-44页 |
| 2.2.4 QDs@SiO_2-MIPs和QDs@SiO_2-NIPs的表征 | 第44页 |
| 2.2.5 在不同pH值下荧光强度的检测 | 第44-45页 |
| 2.2.6 在不同浓度SM_2条件下荧光强度的检测 | 第45页 |
| 2.2.7 实际样品中SM_2的检测 | 第45页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第45-56页 |
| 2.3.1 QDs@SiO_2-MIPs和QDs@SiO_2-NIPs的表征 | 第45-49页 |
| 2.3.2 pH值对荧光强度的影响 | 第49-50页 |
| 2.3.3 QDs@SiO_2-MIPs的荧光稳定性 | 第50-52页 |
| 2.3.4 QDs@SiO_2-MIPs的吸附识别 | 第52-54页 |
| 2.3.5 QDs@SiO_2-MIPs的选择性研究 | 第54-55页 |
| 2.3.6 实际牛奶样品的分析检测 | 第55-56页 |
| 2.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 基于KH-570修饰的二氧化硅包裹碲化镉量子点磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备及研究 | 第57-75页 |
| 3.1 引言 | 第57-58页 |
| 3.2 实验 | 第58-62页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第58-59页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第59-60页 |
| 3.2.3 基于KH-570修饰的二氧化硅包裹碲化镉量子点磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备 | 第60-61页 |
| 3.2.4 QDs@SiO_2@MIPs和QDs@SiO_2@NIPs的表征 | 第61页 |
| 3.2.5 在不同pH值条件下检测荧光强度和荧光猝灭程度 | 第61页 |
| 3.2.6 不同浓度QDs@SiO_2@MIPs和QDs@SiO_2@NIPs的荧光强度和荧光猝灭程度 | 第61-62页 |
| 3.2.7 在不同浓度SM_2条件下荧光强度的检测 | 第62页 |
| 3.2.8 实际样品中SM_2的检测 | 第62页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第62-74页 |
| 3.3.1 QDs@SiO_2@MIPs和QDs@SiO_2@NIPs的表征 | 第62-66页 |
| 3.3.2 pH值对荧光强度和荧光猝灭程度的影响 | 第66-67页 |
| 3.3.3 QDs@SiO_2@MIPs浓度对其荧光强度和荧光猝灭程度的影响 | 第67-68页 |
| 3.3.4 荧光稳定性和荧光响应时间 | 第68-69页 |
| 3.3.5 QDs@SiO_2@MIPs的吸附识别 | 第69-72页 |
| 3.3.6 QDs@SiO_2@MIPs的选择性研究 | 第72-73页 |
| 3.3.7 实际水样中SM_2分析检测 | 第73-74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 基于碲化镉量子点修饰二氧化硅纳米粒子磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备及研究 | 第75-92页 |
| 4.1 引言 | 第75-76页 |
| 4.2 实验 | 第76-79页 |
| 4.2.1 实验药品 | 第76页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第76-77页 |
| 4.2.3 基于碲化镉量子点修饰二氧化硅纳米粒子磺胺二甲基嘧啶印迹聚合物的制备 | 第77-78页 |
| 4.2.4 SiO_2/QDs/MIPs和SiO_2/QDs/NIPs的表征 | 第78页 |
| 4.2.5 在不同pH值条件下检测荧光强度和荧光猝灭程度 | 第78-79页 |
| 4.2.6 不同浓度SiO_2/QDs/MIPs和SiO_2/QDs/NIPs的荧光强度和荧光猝灭程度 | 第79页 |
| 4.2.7 在不同浓度SM_2条件下荧光强度的检测 | 第79页 |
| 4.2.8 实际蜂蜜样品中SM_2的检测 | 第79页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第79-90页 |
| 4.3.1 SiO_2/QDs/MIPs和SiO_2/QDs/NIPs的表征 | 第79-83页 |
| 4.3.2 pH值对荧光强度和荧光猝灭程度的影响 | 第83-84页 |
| 4.3.3 SiO_2/QDs/MIPs浓度对其荧光强度和荧光猝灭程度的影响 | 第84-85页 |
| 4.3.4 荧光稳定性和荧光响应时间 | 第85-86页 |
| 4.3.5 SiO_2/QDs/MIPs的吸附识别 | 第86-89页 |
| 4.3.6 SiO_2/QDs/MIPs的选择性研究 | 第89-90页 |
| 4.3.7 实际蜂蜜样品中SM_2的分析检测 | 第90页 |
| 4.4 本章小结 | 第90-92页 |
| 第五章 结论以及进一步的工作建议 | 第92-95页 |
| 5.1 结论 | 第92-93页 |
| 5.2 进一步工作建议 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第110页 |
