| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 光解离动力学 | 第10-13页 |
| 1.1.1 光解过程中的能量守恒 | 第10-11页 |
| 1.1.2 光解离的类型 | 第11-12页 |
| 1.1.3 光解产物的角向分布 | 第12-13页 |
| 1.2 光电离及其手段 | 第13-15页 |
| 1.2.1 光电离质谱 | 第13-14页 |
| 1.2.2 多光子电离技术 | 第14-15页 |
| 1.2.3 光电子-光离子符合与阈值光电子谱 | 第15页 |
| 1.3 离子成像技术 | 第15-19页 |
| 1.3.1 传统的离子成像技术 | 第16页 |
| 1.3.2 离子速度成像技术 | 第16-19页 |
| 1.4 光源 | 第19-22页 |
| 1.4.1 激光 | 第19-20页 |
| 1.4.2 同步辐射 | 第20-22页 |
| 第二章 仪器性能 | 第22-28页 |
| 2.1 仪器的几何结构 | 第22-23页 |
| 2.2 仪器性能的Simion拟合 | 第23-28页 |
| 2.2.1 2D与3D设计的空间分辨率 | 第24-25页 |
| 2.2.2 2D与3D设计的离子球空间膨胀 | 第25-26页 |
| 2.2.3 两种设计的图像放大系数 | 第26-27页 |
| 2.2.4 离子透镜的质量分辨 | 第27-28页 |
| 第三章 230m附近OCS三重态解离通道的研究 | 第28-42页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 实验 | 第29-30页 |
| 3.3 实验结果和讨论 | 第30-39页 |
| 3.3.1 CO(X~1∑~+)的2+1 REMPI谱 | 第30-32页 |
| 3.3.2 CO(X~1∑~+)+的离子速度切片成像 | 第32-39页 |
| 3.4 总结 | 第39-42页 |
| 第四章 四氟化碳离子解离动力学的研究 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42-44页 |
| 4.2 实验 | 第44页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第44-52页 |
| 4.3.1 四氟化碳的阈值光电子谱 | 第44-45页 |
| 4.3.2 阈值光电子光离子符合时间飞行质谱 | 第45-46页 |
| 4.3.3 四氟化碳离子(X~2T_1)解离得到的三氟化碳离子阈值光电子光离子符合速度成像 | 第46-48页 |
| 4.3.4 四撖化碳离子(A~2T_2)解离得到的三搌化碳离子的闺值光电子光离子符合速度成像 | 第48-49页 |
| 4.3.5 四氟化碳离子(B~2E)解离得到的三氟化碳离子的阈值光电子光离子符合速度成像 | 第49-50页 |
| 4.3.6 四氟化碳离子的基态解离机理 | 第50-51页 |
| 4.3.7 低能电子态的四氟化碳离子的解离动力学 | 第51-52页 |
| 4.4 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 在读期间的研究成果 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
